1400℃帶氧化鋁管的管式爐 186     

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帶氧化鋁管的管式爐是一種實驗室設備，用于高達 1500°C 的高溫應用。它通常用于研究和工業(yè)環(huán)境中的各種工藝，如材料合成、化學氣相沉積、真空燒結和熱處理。該爐由一個加熱元件（通常由碳化硅（SiC）制成）和一個氧化鋁陶瓷管組成。氧化鋁管具有出色的隔熱性能和耐高溫、耐酸堿性。

1200℃ 帶石英管的分體式管式爐 237     

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帶石英管的 1200℃ 分管爐是一種高溫實驗室設備，設計用于在惰性氣氛中進行精確熱處理。它配備了 30 段可編程溫度控制器，加熱和冷卻速度可達每分鐘 15°C。該爐的適用溫度高達 1200°C，包括一個真空泵和氧化鋁陶瓷端塞等附件，可實現(xiàn)均勻的溫度分布。非常適合需要可控環(huán)境和高溫的研究和測試。

氫氣氣氛爐 247     

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氫氣氣氛爐的結構采用了加熱室整體真空密封技術，隔熱室和加熱元件均內置在一個加強型真空室中，其結構類似于真空手套箱的設計，操作人員可使用真空泵將室內空氣吸盡，直至負壓為-0.1Mpa，然后將惰性氣體涌入室內，以達到良好的可控氣氛環(huán)境。KT-AH 型氫氣氣氛爐是一種感應氣體氣氛爐，可使用氫氣進行燒結或退火工藝。氫氣爐的絕緣材料為多晶陶瓷纖維，加熱元件為高純度鉬絲加熱器，爐內裝有氫氣安全泄漏檢測器和排放氫氣自動點火裝置。

1200℃ 可控氣氛爐 257     

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可控氣氛爐是一種可將一種或多種氣體引入加熱室的爐子，這些氣體可與被加熱材料發(fā)生反應，使其免受空氣中氧氣和水蒸氣的影響。這種爐子有多種用途，包括熱處理、釬焊、焊接和退火。

網(wǎng)帶式可控氣氛爐 236     

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網(wǎng)帶式可控氣氛爐是一種可在露天和可控氣氛環(huán)境中工作的連續(xù)式生產(chǎn)爐。它主要用于厚膜電路、電阻器、電容器和電感器等電子元件的高溫燒結工藝。該爐采用精選陶瓷纖維加熱器，反應迅速，溫度均勻；采用輕質陶瓷纖維隔熱材料，能耗低；采用網(wǎng)帶傳動系統(tǒng)，傳動穩(wěn)定；采用多獨立溫度熱區(qū)控制，調節(jié)靈活。它還可選配網(wǎng)帶超聲波清洗系統(tǒng)和中央計算機控制裝置。該爐可進行定制，以滿足特定的工藝要求，包括氣氛、溫度和產(chǎn)量。

火花等離子燒結爐 SPS 爐 254     

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火花等離子燒結（SPS）是一種快速材料制備方法，它利用脈沖電流直接在模具中燒結材料。它將等離子活化、熱壓和電阻加熱結合在一起，與傳統(tǒng)燒結方法相比具有多項優(yōu)勢。SPS 能夠實現(xiàn)均勻加熱、高加熱率、低燒結溫度、短燒結時間和高生產(chǎn)效率。此外，它還能凈化表面，抑制晶粒生長，有利于生產(chǎn)出均勻、可控的結構。與傳統(tǒng)燒結法相比，SPS 具有環(huán)保、成本效益高、操作時間短等優(yōu)點。

真空管熱壓爐 307     

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真空管式熱壓爐集真空/氣氛、熱壓成形和高溫燒結于一體。它適用于干粉冶金和功能陶瓷等新材料的高溫熱成型。金屬組成的合金材料的真空燒結和陶瓷材料碳化硅、氮化硅的高溫燒結也可用于干粉或主要成分熔點溫度較低的粉碎。通過冶金結合增加其強度。

熱壓爐 307     

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真空熱壓爐是在真空或大氣條件下對材料進行加熱和加壓的成套設備。根據(jù)材料和加熱溫度的不同，加熱元件可采用石墨加熱器、鉬加熱器、感應加熱等；加壓方式可采用單向或雙向液壓加壓。

傾斜旋轉式管式爐設備 251     

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KT-PE16 傾斜旋轉式 PECVD 爐 PECVD 爐由一個 500W 射頻等離子源、一個雙區(qū) TF-1200 管式爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標準真空站組成。爐子的最高工作溫度可達 1600℃。工作溫度高達 1600℃，爐管為直徑 60mm 的 Al2O2 陶瓷管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 1 臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10Pa。

帶液體氣化器的滑動 PECVD 管式爐 213     

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KT-PE12 帶液體氣化器的滑動 PECVD 系統(tǒng)由一個 500W 射頻等離子源、一個 TF-1200 滑動爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標準真空站組成。爐腔軌道滑動系統(tǒng)，可實現(xiàn)快速加熱和快速冷卻，可選配輔助強制空氣循環(huán)風扇，加快冷卻速度；可選配滑動自動工作裝置；最高工作溫度可達 1200℃。工作溫度最高可達 1200℃，爐管為一根直徑 60 毫米的石英管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為一臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達 10P。真空壓力可達 10Pa。

多加熱區(qū) CVD 管式爐 297     

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KT-CTF14 多區(qū) CVD 爐有 2 個加熱區(qū)，最高工作溫度可達 1200℃，爐管為直徑 60mm 的石英管；4 通道 MFC 質量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達 10Pa。真空壓力可達 10Pa。

CVD 管式爐 272     

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帶真空站的分體式 CVD 管式爐是一款多功能、高性能的實驗室設備，專為化學氣相沉積 (CVD) 應用而設計。它采用分體式爐腔，便于接觸反應樣品和快速冷卻。爐管由高溫石英制成，直徑為 60 毫米。該系統(tǒng)包括一個 4 通道 MFC 質量流量計，配有 CH4、H2、O2 和 N2 源氣體，可對氣體流速進行精確控制。真空站采用 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10 Pa。帶真空站的分室 CVD 管式爐具有先進的功能和性能，是材料科學、半導體加工和其他領域各種研發(fā)應用的理想選擇。

非消耗性真空電弧爐 256     

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非消耗性真空電弧爐（又稱真空鈕扣爐）的電極由鎢等高熔點材料制成，在爐料熔煉過程中基本不會消耗。目前，它僅用于實驗室研究和制造難熔金屬和金屬碳化物。它是最早的真空電弧爐之一。該爐體積小，占地面積小，操作簡便，不需要專業(yè)人員和專業(yè)技能。它操作封閉，無輻射，對人體無害，對環(huán)境無污染，樣品制備速度快。目前，它主要用于實驗室研究和制造難熔金屬和金屬碳化物。

鎢真空爐 282     

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鎢真空爐是一種高溫爐，專為材料科學和工程領域的廣泛應用而設計。它的最高溫度為 2200 ℃，在 2200 ℃ 時冷態(tài)極限真空度為 10-5 Pa，熱態(tài)極限真空度為 3 × 10-3 Pa。該爐采用成熟先進的外圍和真空系統(tǒng)設計，優(yōu)化了全金屬熱區(qū)的配置。它具有精確的溫度控制、高真空度和友好的用戶界面。2200 ℃ 鎢真空爐是研究人員和工程師處理鎢、石墨烯和碳化硅等高溫材料的理想工具。

2200℃石墨真空爐 291     

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2200℃ 石墨真空爐是一種采用石墨氈作為隔熱材料、石墨電阻棒作為加熱元件的高溫爐。它的最高工作溫度可達 2200℃，是鎢合金、碳化硅、鉬合金、鈦合金、硬質合金和碳材料等各種材料真空反應燒結的理想選擇。

鉬真空爐 260     

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鉬真空爐采用鉬隔熱板作為隔熱內襯，是一種高配置真空爐，鉬隔熱板由多層表面拋光的鉬板組成，可反射和保持爐膛內的熱量；鉬全金屬熱場通常適用于高純度和真空要求的服務環(huán)境，如藍寶石晶體生長、特殊釬焊和熱處理等。

帶陶瓷纖維內襯的真空爐 260     

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陶瓷纖維內襯真空爐是一種使用陶瓷纖維作為隔熱內襯的真空爐。陶瓷纖維是一種輕質多孔材料，具有出色的隔熱性能。因此，它是用于真空爐的理想材料，有助于減少熱量損失和提高溫度均勻性。

9MPa 空氣壓力燒結爐 264     

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氣壓燒結爐是一種常用于先進陶瓷材料燒結的高科技設備。它結合了真空燒結和壓力燒結技術，可實現(xiàn)高密度和高強度陶瓷。該爐由加熱室、壓力容器、供氣系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)組成。在運行過程中，爐子被加熱到預定溫度，高壓氣體（通常為氮氣或氬氣）被引入壓力容器。

小型真空鎢絲燒結爐 250     

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小型真空鎢絲燒結爐是專為大學和研究機構設計的緊湊型實驗真空爐。該爐采用數(shù)控焊接外殼和真空管路，確保無泄漏運行。其快速連接的電氣接頭便于搬遷和調試，而標準的電控柜則為操作提供了安全和便利。爐子的內表面經(jīng)過精密拋光，氦質譜真空檢漏儀確保了高真空完整性。該爐采用立式結構、一體化箱體和移動輪，占用空間小，移動方便。電動升降爐底提高了運行的可靠性和平穩(wěn)性。

真空鉬絲燒結爐 264     

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真空鉬絲燒結爐為立式或臥式結構，適用于在高真空、高溫條件下對金屬材料進行退火、釬焊、燒結和脫氣處理。它也適用于石英材料的脫羥處理。該設備由爐蓋（爐門）、爐底（爐頭）、爐體和電控系統(tǒng)組成，主要用于一些特殊高溫材料的燒結、退火和焊接。

600T 真空感應熱壓爐 249     

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真空感應熱壓爐是一種多功能、高性能的實驗室設備，設計用于在真空或保護氣氛中進行熱壓燒結實驗。它廣泛應用于非金屬材料、碳復合材料、陶瓷材料和金屬粉末材料等各種材料的教學、科研和生產(chǎn)。

真空壓力燒結爐 182     

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真空壓力燒結爐是一種高溫、高壓和低壓燒結設備，主要用于制備高性能陶瓷、金屬和復合材料。它由爐體、加熱裝置、真空系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。燒結爐在高溫、真空或惰性氣體環(huán)境下燒結粉末或塊狀材料，促進材料重組和再結晶，形成性能優(yōu)異的致密結構。真空壓力燒結爐可防止氧化和污染，確保材料質量。

電弧熔化爐 157     

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真空感應熔煉爐是利用水冷感應線圈和耐火襯里在真空條件下熔煉金屬的專用設備。它對于鑄造飛機部件和精煉高純度金屬至關重要，工作溫度高達 2000℃，具有傾斜和澆注機構、鑄造室和取樣口等功能。

真空密封連續(xù)工作旋轉管式爐 268     

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斜管式回轉爐用于實驗室煅燒和干燥電池中的正極材料、非強酸堿粉末材料和顆粒材料。連續(xù)旋轉爐的爐管既可旋轉又可傾斜，旋轉速度無級調速，傾角可任意調節(jié)。真空管式爐進口碳化硅加熱元件，采用雙殼體結構和智能程序。

實驗室真空傾斜旋轉管加熱 250     

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該設備在鋰離子電池正負極材料的煅燒和干燥任務中表現(xiàn)出色，也可用于稀土材料、化學催化材料、磁性材料等多種材料的高溫反應、熱處理等。其采用優(yōu)越的加熱和絕緣材料，使用壽命長且節(jié)能，配備PID智能熱控制，加熱精確，熱均勻性好。7英寸TFT觸摸屏控制器使程序設置和歷史數(shù)據(jù)分析更加友好。此外，設備還具備科學的旋轉系統(tǒng)設計，工作穩(wěn)定，大范圍無級調速，電動傾斜功能可靈活控制物料移動。獨特的穩(wěn)定動態(tài)真空密封技術使其能夠在真空和可控氣氛兩種環(huán)境下工作。

分體式多加熱區(qū)旋轉管式爐 282     

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分體式多加熱區(qū)旋轉管式爐是一種高配置旋轉爐，具有 2-8 個獨立的加熱區(qū)，每個加熱區(qū)都有自己的熱控制器，可實現(xiàn)出色的溫度控制。它具有旋轉和傾斜功能，可無級調速和調節(jié)傾斜角度。該爐可在真空和可控氣氛環(huán)境下運行，是煅燒、干燥、高溫反應、熱處理和熱解等各種應用的理想之選。它的優(yōu)點包括溫度分布均勻、能效高、熱控制精確、用戶界面友好以及可定制的設計選項。

真空感應熔化紡絲系統(tǒng)電弧熔化爐 268     

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真空感應熔化紡絲系統(tǒng)電弧熔化爐是一種用于制備非晶和微晶材料的專用設備，適用于易析出材料的快速熔化與冷卻成型。該系統(tǒng)可處理20-1000克材料，配備1-70毫米寬的傳送帶和直徑φ200-φ300毫米的高速旋轉器（3000轉/分鐘），真空度可達6.7×10??Pa。它采用感應熔煉技術，將熔融金屬快速冷卻為薄帶或薄絲，抑制結晶，獲得非晶質材料。設備由不銹鋼高真空室、感應熔煉裝置、高速水冷銅紡輪、傳送帶或金屬絲收集裝置、感應電源、氣動升降裝置、溫度傳感器、循環(huán)水冷卻器和高真空系統(tǒng)組成。

真空電弧爐 271     

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真空電弧爐是一種高性能的熔煉設備，主要用于熔化鈦、鈮、鋯等活性金屬以及鎢、鉬等難熔金屬，還適用于鐵基、鎳基、鈷基等合金材料的熔煉和提純。其特點包括高溫熔煉（可達3500度以上）、熔化速度快、脫氣效果顯著、金屬不受耐火材料污染，且能有效去除氧氣和雜質。設備采用全不銹鋼爐體、立式圓柱形真空室，配備大直徑觀察窗和高真空設計（真空度可達5×10??Pa及以上），操作安全且直觀。

真空懸浮感應熔化爐 269     

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真空懸浮熔煉爐是一種采用水冷坩堝的電磁感應真空懸浮熔煉方法的新型熔爐。它是在真空條件下，將熔化的金屬或非金屬固體置于感應線圈形成的高頻或中頻交變電場中，利用水冷金屬坩堝作為磁場的 "能量收集器"，使能量磁場的能量集中在坩堝的容積空間內，在目標熔體材料表面附近形成強大的渦流。

區(qū)域熔煉提純爐(雙管) 359     

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設備采用一個感應電源控制區(qū)域內的感應線圈，通過線圈水平移動的的方式實現(xiàn)溫區(qū)內物料的局部熔化和驅趕提純的目的。石英管兩真空法蘭密封，一端帶爐門，方便裝卸石墨舟或者其他材質料舟。感應線圈布置固定在底部的滑動線性模組上，通過伺服電機傳動機構控制，實現(xiàn)感應線圈的前后移動，實現(xiàn)物料的區(qū)熔提純。石英管選配布置紅外測溫裝置，實現(xiàn)物料的實時測溫。設備一體化布局，側后部安裝有高頻感應電源和控制系統(tǒng)，帶觸摸屏和plc控制，操作簡單方便，帶數(shù)據(jù)和工藝存儲、下載、保存功能。