高真空熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 343     

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高真空熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是一種利用電阻加熱或電子束加熱使材料蒸發(fā)，并在高真空環(huán)境下沉積到基片表面形成薄膜的 物理氣相沉積(PVD) 設(shè)備。該系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于光學(xué)薄膜、電子器件、裝飾鍍膜等領(lǐng)域。

高真空多功能真空鍍膜機(jī) 302     

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高真空多功能真空鍍膜機(jī)是一種集成了多種鍍膜技術(shù)(如熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、離子鍍等)的先進(jìn)設(shè)備，能夠在高真空環(huán)境下實(shí)現(xiàn)不同類型的薄膜沉積，滿足科研與工業(yè)中對(duì)復(fù)雜薄膜的需求。

真空熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 339     

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真空熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)是一種常見(jiàn)的物理氣相沉積(PVD)技術(shù)，通過(guò)加熱蒸發(fā)材料使其在真空環(huán)境中氣化，隨后凝結(jié)在基片表面形成薄膜。

多功能蒸鍍?cè)O(shè)備 376     

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多功能蒸鍍?cè)O(shè)備（Multi-functional Deposition System）是集成了多種PVD技術(shù)（如熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射等）的復(fù)合型鍍膜設(shè)備，通常具備：模塊化真空腔體設(shè)計(jì)，多類型蒸發(fā)源/濺射靶兼容，基片多自由度運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)，實(shí)時(shí)膜厚監(jiān)測(cè)能力，輔助離子源/加熱裝置。

高真空多源熱蒸發(fā)設(shè)備 320     

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高真空多源熱蒸發(fā)設(shè)備是一種基于電阻加熱原理的物理氣相沉積(PVD)設(shè)備，通過(guò)多個(gè)獨(dú)立可控蒸發(fā)源(通常2-14個(gè))，在高真空環(huán)境(10??~10?? Pa)下實(shí)現(xiàn)：?jiǎn)钨|(zhì)/合金薄膜的共蒸，多層復(fù)合結(jié)構(gòu)沉積，梯度成分材料制備。

14源電阻式熱蒸發(fā)設(shè)備 322     

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14源電阻式熱蒸發(fā)設(shè)備是一種超多材料共蒸系統(tǒng)，通過(guò)高真空環(huán)境（10??~10?? Pa）和電阻加熱蒸發(fā)，實(shí)現(xiàn)復(fù)雜組分薄膜的精確制備。

三源熱蒸發(fā)設(shè)備 318     

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三源熱蒸發(fā)設(shè)備是一種基于電阻加熱蒸發(fā)的鍍膜系統(tǒng)，配備3個(gè)獨(dú)立蒸發(fā)源，可在高真空（10??~10?? Pa）環(huán)境下沉積金屬或化合物薄膜。

高真空金屬鍍膜儀 296     

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高真空金屬鍍膜儀是一種利用物理氣相沉積（PVD）技術(shù)在真空環(huán)境中沉積金屬薄膜的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于科研、電子、光學(xué)及精密制造領(lǐng)域。其核心特點(diǎn)是高真空環(huán)境（10??~10?? Pa）和金屬蒸發(fā)/濺射鍍膜技術(shù)，可制備高純度、高均勻性的金屬薄膜（如Au、Ag、Al、Cu等）。

高真空六源熱蒸發(fā)設(shè)備 316     

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高真空六源熱蒸發(fā)設(shè)備是一種基于電阻加熱蒸發(fā)原理的鍍膜設(shè)備，配備6個(gè)獨(dú)立蒸發(fā)源，可在高真空（10??~10?? Pa）環(huán)境下實(shí)現(xiàn)多材料共蒸或順序沉積，適用于復(fù)雜組分薄膜的制備。

團(tuán)簇式高真空多功能鍍膜設(shè)備 311     

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團(tuán)簇式高真空多功能鍍膜設(shè)備是一種模塊化、多腔室集成的先進(jìn)鍍膜系統(tǒng)，可在高真空或超高真空（10??~10?? Pa）環(huán)境下實(shí)現(xiàn)多種鍍膜工藝的連續(xù)處理，避免樣品暴露大氣，提高鍍膜質(zhì)量和效率。

單室四源高真空電阻式鍍膜設(shè)備 323     

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1、真空室腔體:1套。外形：304優(yōu)質(zhì)不銹鋼D形前后開門真空室腔體1套，后門采用鉸鏈?zhǔn)椒介T，方便清洗真空腔體，真空室內(nèi)部調(diào)試，維修以及取放物品，前門采用橫拉方門，真空室內(nèi)部尺寸D350*480mm，前后門各配DN100視窗1套; 底部：有機(jī)源接口4套，JTFB-600風(fēng)冷復(fù)合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美國(guó)MCVAC水冷膜厚探頭接口2套;

單室八源電阻式鍍膜設(shè)備 309     

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真空室腔體:1套；外形：304優(yōu)質(zhì)不銹鋼D形前后開門(后門采用鉸鏈?zhǔn)椒介T，方便清洗真空腔體，真空室內(nèi)部調(diào)試，維修以及取放物品，前門采用橫拉方門)真空室腔體1套(真空室內(nèi)部尺寸D400*480mm)，前后門各配DN100視窗1套; 底部：金屬蒸發(fā)源接口8套， JTFB-600風(fēng)冷復(fù)合分子泵接口1套，CF25照明接口2套以及美國(guó)MCVAC水冷膜厚探頭接口2套; 頂部：樣品臺(tái)接口1套，電動(dòng)擋板接口1套，KF16氣動(dòng)角閥接口1套;

超高溫超高真空蒸餾爐 396     

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該設(shè)備是一臺(tái)超高溫超高真空蒸餾爐，主要利用不同成分在相同溫度下蒸汽壓及冷凝溫度不同的原理，用于高熔點(diǎn)稀有或稀土金屬熔煉及蒸餾提純。

雙室高真空鍍膜設(shè)備 311     

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一、電子束水冷樣品臺(tái)組件1件： 1、旋轉(zhuǎn)：57CM23步進(jìn)電機(jī)，1件光電限位開關(guān)（前后兩點(diǎn)）； 2、升降：57CM23步進(jìn)電機(jī)，配速比1:5減速器，升降2點(diǎn)接觸限位開關(guān)，觸摸屏上顯示電子束高點(diǎn)400mm，低點(diǎn)300mm，金屬源高點(diǎn)340mm，低點(diǎn)240mm，另取1點(diǎn)，可隨意定位； 3、樣品臺(tái)擋板：24V減速電機(jī)，2件限位開關(guān)。

單室高真空電阻式鍍膜設(shè)備 405     

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鍍膜設(shè)備以蒸發(fā)源為主體，適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等，整套設(shè)備操作簡(jiǎn)便，綜合功能多，擴(kuò)展空間大，適合及滿足大專院校的教學(xué)與科研工作。

非自耗真空電弧爐 487     

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非自耗真空電弧爐主要供大專院?；蚩蒲袡C(jī)構(gòu)在真空或保護(hù)氣氛下對(duì)少量(數(shù)十克至上百克)貴金屬或合金材料進(jìn)行熔化處理。通過(guò)電弧放電的方式加熱并融化金屬原料，使之成為合金。

真空定向凝固爐 344     

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VIM 系列真空定向凝固爐是將金屬原料在真空狀態(tài)或保護(hù)氣氛中進(jìn)行熔化凝固成型，利用設(shè)置的保溫與冷卻系統(tǒng)形成熱梯度，澆鑄工件通過(guò)精密的下拉機(jī)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)定向凝固的過(guò)程，制備出單晶等工件。

真空連鑄爐 330     

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真空連鑄爐是在真空條件下利用中頻感應(yīng)加熱原理進(jìn)行熔化金屬或金屬合金；通過(guò)特制的一套引錠機(jī)構(gòu)拉鑄金屬及合金通過(guò)結(jié)晶器冷卻成型（板材、板材、管材）的現(xiàn)代化成型設(shè)備。

真空氫化爐 366     

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本爐是在真空狀態(tài)、加熱和充入氫氣條件下使物料在反應(yīng)器皿中發(fā)生氫化反應(yīng)。本設(shè)備包括反應(yīng)罐、加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、進(jìn)氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安全防護(hù)系統(tǒng)。

真空區(qū)熔提純爐 341     

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真空區(qū)熔爐主要分水平區(qū)熔和立式區(qū)熔二種。主要應(yīng)用于金屬或合金在真空狀態(tài)或保護(hù)氣氛下的區(qū)熔提純和精煉。

真空懸浮熔鑄爐 346     

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VIM-HC真空懸浮熔鑄爐是在真空條件下將所熔煉的金屬或非金屬固體爐料，置于感應(yīng)線圈所形成的高頻或中頻交變電場(chǎng)中，并利用通水冷卻的金屬坩堝作為磁場(chǎng)的“聚能器”，使能源磁場(chǎng)能量集中于坩堝容積空間，進(jìn)而在爐料的表層附近形成強(qiáng)大的渦電流，一方面釋放出焦耳熱使?fàn)t料溶化，另一方面形成洛侖茲力場(chǎng)使熔體懸浮(或半懸浮)和攪拌。由于磁懸浮的作用，使熔體與坩堝內(nèi)壁脫離接觸，這樣熔體與坩堝壁之間的散熱行為由傳導(dǎo)散熱改變?yōu)檩椛渖?，從而?dǎo)致散熱速度聚減。使熔體可達(dá)到很高的溫度，(1500℃—2500℃)宜于熔煉高熔點(diǎn)金屬或其合金。

真空壓力鑄造爐 269     

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真空感應(yīng)熔煉壓力鑄造爐主要用于各類高溫合金、鐵基、鎳基合金及某些有色金屬及其合金在真空狀態(tài)或惰性氣體保護(hù)下，利用中頻感應(yīng)加熱的原理進(jìn)行熔化并充以正壓特定氣體的條件下進(jìn)行澆鑄成型。最高可以充正壓達(dá)1.0MPa實(shí)現(xiàn)加壓凝固。

空速凝甩帶爐 342     

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VGI系列真空速凝甩帶爐是將金屬或合金材料在真空或保護(hù)氣氛中進(jìn)行熔化、脫氣、合金化及精煉;并通過(guò)坩堝澆鑄至中間包再流粘到快淬水冷輥上，經(jīng)急速冷卻形成薄片，并在儲(chǔ)罐內(nèi)進(jìn)行二次冷卻，使其成為合格的微晶薄片。

真空氮化爐 338     

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真空氮化爐、簡(jiǎn)稱氮化爐，滲氮爐，用于金屬材料工件表面氮化，氮碳共滲，尤其適合有狹縫，深孔，盲孔工件的氮化處理。

真空高溫石墨化爐 408     

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真空高溫石墨化爐主要用于 C/C的石墨化燒結(jié)處理。復(fù)合材料具有優(yōu)異的綜合性能，特別適于高溫領(lǐng)域，如航空、航天等方面。典型應(yīng)用為飛機(jī)的渦輪 、剎車盤、活塞、機(jī)翼前緣、鼻錐等。

真空補(bǔ)焊箱（機(jī)匣等） 298     

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真空補(bǔ)焊箱（機(jī)匣等）主要用于鑄件在保護(hù)氣氛下補(bǔ)焊工作，焊后無(wú)氧化。

真空除氣爐（石墨膜殼） 326     

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凝殼爐鑄造用石墨型殼、陶瓷型殼真空下除氣處理及金屬材料的淬火后的回火及各種材料、零件真空下的脫脂除氣。

鈦合金真空退火爐 344     

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鈦合金真空退火爐主要用于鈦合金板材、管材等真空退火，能夠?qū)崿F(xiàn)真空退火過(guò)程工藝參數(shù)檢測(cè)與全過(guò)程優(yōu)化控制。

底裝式高壓固溶設(shè)備（盤管、直管） 408     

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主要用于石油、石化領(lǐng)域潔凈不銹鋼及航空、電力能源領(lǐng)域等薄壁不銹鋼管的退火、時(shí)效處理;也用于奧氏體不銹鋼管、鐵鎳基耐蝕合金管及高溫合金管等管棒材的固溶處理。

真空連續(xù)熱處理設(shè)備（直管、盤管） 327     

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主要用于電力能源領(lǐng)域、航空航天領(lǐng)域鎳基高溫合金管及馬氏體不銹鋼管等產(chǎn)品的退火、及時(shí)效處理等;也用于奧氏體不銹鋼管、鐵鎳基耐蝕合金管及高溫合金管等管棒材的固溶處理。