高導(dǎo)熱薄膜石墨爐 234     

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高導(dǎo)熱薄膜石墨化爐是專為高導(dǎo)熱薄膜，尤其是聚酰亞胺（PI）薄膜的石墨化工藝而設(shè)計的專用設(shè)備。該爐利用中頻感應(yīng)加熱實現(xiàn)快速升溫和高效率。其獨特的設(shè)計可確保整個爐腔內(nèi)的溫度非常均勻。該爐采用雙層氧化鋁磚隔熱結(jié)構(gòu)，可防止短路，具有出色的隔熱和防火性能，從而將熱量損失降至最低，并增強了設(shè)備的穩(wěn)定性。它可以用一個電源靈活配置多臺電爐，通過接通電爐電源進(jìn)行加熱和關(guān)閉電源進(jìn)行冷卻，從而實現(xiàn)連續(xù)運行。電爐的每個水道都配有數(shù)字流量監(jiān)控系統(tǒng)，確保電源柜內(nèi)的全面保護(hù)。

負(fù)極材料石墨爐 237     

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石墨化爐是用于生產(chǎn)電池負(fù)極材料的專用設(shè)備。它利用中頻感應(yīng)加熱實現(xiàn)快速升溫和高效率。獨特的爐體設(shè)計可確保整個爐體具有極佳的溫度均勻性。雙層氧化鋁磚隔熱材料具有優(yōu)異的隔熱性和耐火性，最大限度地減少了熱量損失，提高了設(shè)備的穩(wěn)定性。該系統(tǒng)可通過多個電源和電爐連續(xù)運行，并可配置加熱和冷卻周期。先進(jìn)的功能包括用于水流監(jiān)測和保護(hù)的數(shù)字流量監(jiān)測系統(tǒng)、高性能中頻接觸器以及全面的 PLC 水、電、氣自動控制和保護(hù)系統(tǒng)。

立式高溫石墨化爐 232     

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立式高溫石墨化爐是一種高溫爐，用于石墨化實驗和各種碳材料的生產(chǎn)。其特點是升溫快、效率高、溫度分布均勻。該爐采用雙層氧化鋁磚保溫，防止短路，確保隔熱、防火和穩(wěn)定性。它具有數(shù)字流量監(jiān)控系統(tǒng)和全面的 PLC 水、電、氣自動控制和保護(hù)系統(tǒng)。

大型立式石墨化爐 235     

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大型立式高溫石墨化爐是一種用于碳纖維和炭黑等碳材料石墨化的工業(yè)爐。它是一種高溫爐，溫度最高可達(dá) 3100°C。該爐通常用于生產(chǎn)大型碳碳復(fù)合材料，如碳碳坩堝和碳碳圓柱體。該爐還可用于炭黑和碳纖維等大量碳材料的石墨化。

臥式高溫石墨化爐 233     

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石墨化爐是生產(chǎn)碳產(chǎn)品和碳材料的關(guān)鍵設(shè)備。它用于石墨化實驗和各種碳材料的生產(chǎn)，最高溫度可達(dá) 3100°C。該爐擅長碳材料的石墨化和碳纖維絲的定型石墨化。它可以配置多個電爐，以適應(yīng)不同的燒結(jié)過程時間，并通過交替供電和冷卻實現(xiàn)連續(xù)運行。

超高溫石墨化爐 288     

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超高溫石墨化爐利用真空或惰性氣體環(huán)境中的中頻感應(yīng)加熱。感應(yīng)線圈產(chǎn)生交變磁場，在石墨坩堝中產(chǎn)生渦流，從而加熱并向工件輻射熱量，使其達(dá)到所需的溫度。該爐主要用于碳材料、碳纖維材料和其他復(fù)合材料的石墨化和燒結(jié)。它由爐體、爐蓋、加熱傳感器、隔熱層、電極抽取裝置、水循環(huán)分配系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)等組成。電氣系統(tǒng)包括一個 60KVA、IGBT 晶體管中頻電源和水冷電纜，配有各種指示儀表和報警功能。控制部分采用 15 英寸觸摸屏和可編程控制器 PLC。

連續(xù)工作的電加熱熱解爐設(shè)備 243     

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電轉(zhuǎn)爐是一種以電為熱源的工業(yè)爐。它常用于各種材料的煅燒和干燥，包括磷酸鐵、磷酸鐵鋰、錳酸鋰、陰極石墨、三氧化鈷、陰極硅碳、氫氧化鋰、粉末除碳、氧化鋅、氧化鐵、氧化錳、稀土材料和有色金屬。該爐的特點是加熱速度快、能效高、經(jīng)久耐用。它采用鎳基合金爐管，可承受高達(dá) 1100℃ 的連續(xù)工作溫度，確保了使用壽命和可靠性。此外，該爐采用優(yōu)質(zhì)碳化硅（SiC）加熱元件，可延長使用壽命并簡化維護(hù)。

電回轉(zhuǎn)煅燒爐 251     

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電加熱回轉(zhuǎn)窯是一種外加熱回轉(zhuǎn)爐，其加熱源為清潔電力，工作溫度控制精度高。電加熱回轉(zhuǎn)窯廣泛應(yīng)用于正負(fù)極材料（磷酸鐵鋁、錳酸鋰、鈷酸鋰、三元、石墨負(fù)極等）、稀土材料、化工催化材料、磁性材料、粉末冶金材料、有色金屬材料以及高嶺土等非金屬礦物材料的粉狀或顆粒狀材料的煅燒和干燥、高溫反應(yīng)、熱處理、碳化等。

1200℃ 馬弗爐 220     

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KT-12M 馬弗爐采用日本高純度多晶氧化鋁纖維保溫，內(nèi)嵌摻鉬耐熱加熱絲線圈，加熱速度高達(dá)每分鐘 30 度，工作溫度高達(dá) 1200C；PID 智能溫度微處理器，控溫精度高，溫度均勻性好。

底部升降爐 230     

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KT-BL 爐底升降爐具有良好的溫度均勻性，便于產(chǎn)品批量生產(chǎn)，其加熱元件布置在爐膛的四面，可形成良好的加熱輻射場；爐底升降爐可配備 2 個電動升降產(chǎn)品裝載臺，操作員可在另一個臺處于加熱室時將產(chǎn)品裝載到第二個臺上，從而大大提高了生產(chǎn)效率。

高溫脫脂和預(yù)燒結(jié)爐 234     

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KT-MD 排膠預(yù)燒結(jié)一體爐廣泛應(yīng)用于各種成型工藝陶瓷材料的排膠和預(yù)燒結(jié)，如氮化鋁、氮化硅、氧化鋁、氧化鋯和介電陶瓷等精細(xì)陶瓷元件，以及陶瓷粉體材料、磁性材料、LTCC、MLCC、NTC、NFC、陶瓷磁芯等電子元件的排膠、預(yù)燒結(jié)和燒結(jié)一體化工藝。

高壓管式爐 228     

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高壓管式爐是一種專用設(shè)備，用于冶金、玻璃和熱處理等多個行業(yè)，在可控氣氛下加工材料。它采用中頻感應(yīng)加熱來達(dá)到高溫，這對粉末燒結(jié)和金屬變形校正等工藝至關(guān)重要。該爐具有可選的真空或改良?xì)夥赵O(shè)置以及用于精確控溫的高質(zhì)量加熱元件等功能，可確保樣品的完整性并防止污染。

立式管式爐 232     

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垂直管式爐是一種實驗室設(shè)備，用于在受控大氣條件下對材料進(jìn)行高溫處理。它由一根垂直方向的石英管組成，石英管封閉在一個加熱室內(nèi)，可以實現(xiàn)精確的溫度控制和均勻的熱量分布。這些爐子通常用于各種應(yīng)用，包括熱處理、淬火、退火、晶體生長和化學(xué)氣相沉積（CVD）涂層。立式管式爐具有可編程溫度控制器、真空密封功能和用于樣品處理的專用附件等先進(jìn)功能，為材料加工提供了多功能性和精確性。垂直管式爐能夠產(chǎn)生可控氣氛并達(dá)到高溫，是研發(fā)、材料科學(xué)和工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域的重要工具。

加熱管爐 230     

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RTP 快速加熱管爐可在極短的時間內(nèi)加熱到目標(biāo)高溫。它廣泛應(yīng)用于通過 CVD 解決方案對大尺寸石墨烯袍進(jìn)行加熱處理。通過不同的真空泵站設(shè)置，RTP 快速加熱管爐可在可控氣氛環(huán)境和高真空環(huán)境下工作，創(chuàng)建理想的熱處理室。最高加熱速度可達(dá)每秒 100℃，最高冷卻速度可達(dá)每秒 110℃。它有一個用于固定爐管法蘭的滑軌，方便將爐管從加熱保溫室中抽出。溫度傳感器與樣品架接觸，可獲得更精確的溫度控制和指示。

多區(qū)管式爐 228     

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多區(qū)管式爐是一種多功能實驗室設(shè)備，專為高溫應(yīng)用而設(shè)計。它具有多個獨立控制的加熱區(qū)，可實現(xiàn)精確的溫度梯度或均勻加熱。管式爐通常配備高純度石英管或氧化鋁管，用于盛放樣品和加熱。

1400℃帶氧化鋁管的管式爐 165     

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帶氧化鋁管的管式爐是一種實驗室設(shè)備，用于高達(dá) 1500°C 的高溫應(yīng)用。它通常用于研究和工業(yè)環(huán)境中的各種工藝，如材料合成、化學(xué)氣相沉積、真空燒結(jié)和熱處理。該爐由一個加熱元件（通常由碳化硅（SiC）制成）和一個氧化鋁陶瓷管組成。氧化鋁管具有出色的隔熱性能和耐高溫、耐酸堿性。

1200℃ 帶石英管的分體式管式爐 221     

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帶石英管的 1200℃ 分管爐是一種高溫實驗室設(shè)備，設(shè)計用于在惰性氣氛中進(jìn)行精確熱處理。它配備了 30 段可編程溫度控制器，加熱和冷卻速度可達(dá)每分鐘 15°C。該爐的適用溫度高達(dá) 1200°C，包括一個真空泵和氧化鋁陶瓷端塞等附件，可實現(xiàn)均勻的溫度分布。非常適合需要可控環(huán)境和高溫的研究和測試。

氫氣氣氛爐 229     

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氫氣氣氛爐的結(jié)構(gòu)采用了加熱室整體真空密封技術(shù)，隔熱室和加熱元件均內(nèi)置在一個加強型真空室中，其結(jié)構(gòu)類似于真空手套箱的設(shè)計，操作人員可使用真空泵將室內(nèi)空氣吸盡，直至負(fù)壓為-0.1Mpa，然后將惰性氣體涌入室內(nèi)，以達(dá)到良好的可控氣氛環(huán)境。KT-AH 型氫氣氣氛爐是一種感應(yīng)氣體氣氛爐，可使用氫氣進(jìn)行燒結(jié)或退火工藝。氫氣爐的絕緣材料為多晶陶瓷纖維，加熱元件為高純度鉬絲加熱器，爐內(nèi)裝有氫氣安全泄漏檢測器和排放氫氣自動點火裝置。

1200℃ 可控氣氛爐 239     

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可控氣氛爐是一種可將一種或多種氣體引入加熱室的爐子，這些氣體可與被加熱材料發(fā)生反應(yīng)，使其免受空氣中氧氣和水蒸氣的影響。這種爐子有多種用途，包括熱處理、釬焊、焊接和退火。

網(wǎng)帶式可控氣氛爐 219     

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網(wǎng)帶式可控氣氛爐是一種可在露天和可控氣氛環(huán)境中工作的連續(xù)式生產(chǎn)爐。它主要用于厚膜電路、電阻器、電容器和電感器等電子元件的高溫?zé)Y(jié)工藝。該爐采用精選陶瓷纖維加熱器，反應(yīng)迅速，溫度均勻；采用輕質(zhì)陶瓷纖維隔熱材料，能耗低；采用網(wǎng)帶傳動系統(tǒng)，傳動穩(wěn)定；采用多獨立溫度熱區(qū)控制，調(diào)節(jié)靈活。它還可選配網(wǎng)帶超聲波清洗系統(tǒng)和中央計算機控制裝置。該爐可進(jìn)行定制，以滿足特定的工藝要求，包括氣氛、溫度和產(chǎn)量。

火花等離子燒結(jié)爐 SPS 爐 240     

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火花等離子燒結(jié)（SPS）是一種快速材料制備方法，它利用脈沖電流直接在模具中燒結(jié)材料。它將等離子活化、熱壓和電阻加熱結(jié)合在一起，與傳統(tǒng)燒結(jié)方法相比具有多項優(yōu)勢。SPS 能夠?qū)崿F(xiàn)均勻加熱、高加熱率、低燒結(jié)溫度、短燒結(jié)時間和高生產(chǎn)效率。此外，它還能凈化表面，抑制晶粒生長，有利于生產(chǎn)出均勻、可控的結(jié)構(gòu)。與傳統(tǒng)燒結(jié)法相比，SPS 具有環(huán)保、成本效益高、操作時間短等優(yōu)點。

真空管熱壓爐 283     

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真空管式熱壓爐集真空/氣氛、熱壓成形和高溫?zé)Y(jié)于一體。它適用于干粉冶金和功能陶瓷等新材料的高溫?zé)岢尚?。金屬組成的合金材料的真空燒結(jié)和陶瓷材料碳化硅、氮化硅的高溫?zé)Y(jié)也可用于干粉或主要成分熔點溫度較低的粉碎。通過冶金結(jié)合增加其強度。

熱壓爐 286     

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真空熱壓爐是在真空或大氣條件下對材料進(jìn)行加熱和加壓的成套設(shè)備。根據(jù)材料和加熱溫度的不同，加熱元件可采用石墨加熱器、鉬加熱器、感應(yīng)加熱等；加壓方式可采用單向或雙向液壓加壓。

傾斜旋轉(zhuǎn)式管式爐設(shè)備 231     

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KT-PE16 傾斜旋轉(zhuǎn)式 PECVD 爐 PECVD 爐由一個 500W 射頻等離子源、一個雙區(qū) TF-1200 管式爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標(biāo)準(zhǔn)真空站組成。爐子的最高工作溫度可達(dá) 1600℃。工作溫度高達(dá) 1600℃，爐管為直徑 60mm 的 Al2O2 陶瓷管；4 通道 MFC 質(zhì)量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 1 臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10Pa。

帶液體氣化器的滑動 PECVD 管式爐 192     

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KT-PE12 帶液體氣化器的滑動 PECVD 系統(tǒng)由一個 500W 射頻等離子源、一個 TF-1200 滑動爐、4 個 MFC 氣體精確控制單元和一個標(biāo)準(zhǔn)真空站組成。爐腔軌道滑動系統(tǒng)，可實現(xiàn)快速加熱和快速冷卻，可選配輔助強制空氣循環(huán)風(fēng)扇，加快冷卻速度；可選配滑動自動工作裝置；最高工作溫度可達(dá) 1200℃。工作溫度最高可達(dá) 1200℃，爐管為一根直徑 60 毫米的石英管；4 通道 MFC 質(zhì)量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為一臺 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達(dá) 10P。真空壓力可達(dá) 10Pa。

多加熱區(qū) CVD 管式爐 275     

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KT-CTF14 多區(qū) CVD 爐有 2 個加熱區(qū)，最高工作溫度可達(dá) 1200℃，爐管為直徑 60mm 的石英管；4 通道 MFC 質(zhì)量流量計，氣源為 CH4、H2、O2 和 N2；真空站為 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力可達(dá) 10Pa。真空壓力可達(dá) 10Pa。

CVD 管式爐 244     

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帶真空站的分體式 CVD 管式爐是一款多功能、高性能的實驗室設(shè)備，專為化學(xué)氣相沉積 (CVD) 應(yīng)用而設(shè)計。它采用分體式爐腔，便于接觸反應(yīng)樣品和快速冷卻。爐管由高溫石英制成，直徑為 60 毫米。該系統(tǒng)包括一個 4 通道 MFC 質(zhì)量流量計，配有 CH4、H2、O2 和 N2 源氣體，可對氣體流速進(jìn)行精確控制。真空站采用 4L/S 旋片真空泵，最大真空壓力為 10 Pa。帶真空站的分室 CVD 管式爐具有先進(jìn)的功能和性能，是材料科學(xué)、半導(dǎo)體加工和其他領(lǐng)域各種研發(fā)應(yīng)用的理想選擇。

非消耗性真空電弧爐 240     

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非消耗性真空電弧爐（又稱真空鈕扣爐）的電極由鎢等高熔點材料制成，在爐料熔煉過程中基本不會消耗。目前，它僅用于實驗室研究和制造難熔金屬和金屬碳化物。它是最早的真空電弧爐之一。該爐體積小，占地面積小，操作簡便，不需要專業(yè)人員和專業(yè)技能。它操作封閉，無輻射，對人體無害，對環(huán)境無污染，樣品制備速度快。目前，它主要用于實驗室研究和制造難熔金屬和金屬碳化物。

鎢真空爐 262     

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鎢真空爐是一種高溫爐，專為材料科學(xué)和工程領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用而設(shè)計。它的最高溫度為 2200 ℃，在 2200 ℃ 時冷態(tài)極限真空度為 10-5 Pa，熱態(tài)極限真空度為 3 × 10-3 Pa。該爐采用成熟先進(jìn)的外圍和真空系統(tǒng)設(shè)計，優(yōu)化了全金屬熱區(qū)的配置。它具有精確的溫度控制、高真空度和友好的用戶界面。2200 ℃ 鎢真空爐是研究人員和工程師處理鎢、石墨烯和碳化硅等高溫材料的理想工具。

2200℃石墨真空爐 273     

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2200℃ 石墨真空爐是一種采用石墨氈作為隔熱材料、石墨電阻棒作為加熱元件的高溫爐。它的最高工作溫度可達(dá) 2200℃，是鎢合金、碳化硅、鉬合金、鈦合金、硬質(zhì)合金和碳材料等各種材料真空反應(yīng)燒結(jié)的理想選擇。