本發(fā)明提供了一種鎳/鈷/氫氧化物復(fù)合電極材料的制備方法,所述復(fù)合電極材料是通過循環(huán)伏安法對(duì)沉積有鎳基納米陣列和鈷基納米陣列的碳布進(jìn)行
電化學(xué)重構(gòu)制備得到,所述鎳基納米陣列和所述鈷基納米陣列的質(zhì)量比為1:0.25?2.5;所述循環(huán)伏安法中采用的掃描速率為20?200?mV/s,掃描電壓窗口為0?0.5V到0?1.0V?(參比Hg/HgO電極),掃描圈數(shù)為500?5000次;所述循環(huán)伏安法中采用的電解液為堿性電解液;所述的堿性電解液為氫氧化鈉、氫氧化鉀或氫氧化鋰中的任意一種或是任意兩種或是三種的組合。本發(fā)明提供的方法制備得到的電極材料電化學(xué)性能優(yōu)異,比電容保持率高,具有優(yōu)異的倍率性能。
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“鎳/鈷/氫氧化物復(fù)合電極材料的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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