本發(fā)明涉及一種基于鈮酸鋰的PM-QPSK集成光調(diào)制器及其工作方法。所述集成光調(diào)制器,包括上電極、下電極、襯底和鈮酸鋰晶體;鈮酸鋰晶體上按光路方向依次刻有偏振解復(fù)用器、兩路并聯(lián)的IQ調(diào)制器和偏振復(fù)用器;上電極和下電極分別設(shè)置在鈮酸鋰晶體上表面和襯底下面;所述偏振解復(fù)用器和偏振復(fù)用器分別為基于MZI的鈮酸鋰偏振解復(fù)用器和基于MZI的鈮酸鋰偏振復(fù)用器。本發(fā)明所述集成光調(diào)制器,基于鈮酸鋰的雙折射效應(yīng)制成鈮酸鋰偏振解復(fù)用器和偏振復(fù)用器,改變以往基于硅基制作偏振復(fù)用器的傳統(tǒng),將基于硅基的偏振解復(fù)用器和偏振復(fù)用器與IQ調(diào)制器集成于同一塊晶體上;工藝容差遠(yuǎn)小于硅基工藝。
聲明:
“基于鈮酸鋰的PM-QPSK集成光調(diào)制器及其工作方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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