本發(fā)明公開了一種低溫低壓制備氮化硼涂層的方法,用于解決現(xiàn)有技術中,在采用化學氣相沉積方法時,所需制備溫度較高的問題。以三氯化硼(BCl3)和氨氣(NH3)為主要原料,在低溫條件下進行化學氣相沉積,再將所得樣品進行高溫熱處理,經(jīng)傅里葉紅外和X射線衍射檢測,制備出了滲透能力更強、厚度均勻可控、結(jié)晶度較高的氮化硼涂層。此方法可用于
復合材料氮化硼界面的制備和樣品表面涂層的制備,此方法將氮化硼化學氣相沉積的沉積溫度由1300~1800℃,降到了300~800℃。該方法主要包括:低溫化學氣相沉積和高溫熱處理。
聲明:
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