本發(fā)明提供一種可以給出含硫高分子
復(fù)合材料中交聯(lián)密度的詳細(xì)信息的評價方法。本發(fā)明涉及一種測定含硫高分子復(fù)合材料中交聯(lián)密度的方法,該方法包括:使用高強(qiáng)度X射線照射含硫高分子復(fù)合材料,并在改變X射線的能量的同時測定該復(fù)合材料的X射線吸收譜的測定步驟;通過反向蒙特卡羅方法,基于X射線吸收譜來確定含硫高分子復(fù)合材料中硫原子的三維結(jié)構(gòu)的可視化步驟;基于硫原子的三維結(jié)構(gòu)計算硫原子的每種鍵合數(shù)的交聯(lián)密度的計算步驟。
聲明:
“含硫高分子復(fù)合材料中交聯(lián)密度的測定方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)