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Li-IIMs離子印跡膜的制備方法及應(yīng)用

780   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 00:17:46
本發(fā)明屬于功能材料制備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種Li?IIMs離子印跡膜的制備方法及應(yīng)用。本發(fā)明通過多巴胺的自聚合反應(yīng)修飾聚二甲基硅氧烷以形成強(qiáng)粘性的多巴胺層,然后將琥珀酸酐水解在多巴胺功能化的基材表面形成羧基,羧基修飾的PDMS被進(jìn)一步修飾以構(gòu)建酯修飾的PDMS;進(jìn)一步以杯[4]芳烴為配體、乙二胺四乙酸為洗脫劑制備了一種Li?IIMs印跡膜。相比于傳統(tǒng)膜材料的制備方法,本發(fā)明所制備的印跡膜具有易于回收、便于后續(xù)分離、對分離物質(zhì)無二次污染等優(yōu)點(diǎn),很好地解決了現(xiàn)有鋰離子分離聚合物所存在的難回收、易產(chǎn)生二次污染等缺陷。
聲明:
“Li-IIMs離子印跡膜的制備方法及應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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