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氧化錫多孔薄膜及其制備方法

910 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-19 00:05:14

本發(fā)明公開了一種氧化錫多孔薄膜及其制備方法，屬于一種功能材料。本發(fā)明需要解決的技術問題是提供一種氧化錫多孔薄膜及其制備方法，用這種方法所制成的氧化錫多孔薄膜，其孔隙率高，比表面積大。本發(fā)明的技術方案要點是，氧化錫多孔薄膜，孔徑為0.01－1000μm，孔隙率為20％－70％，比表面積為10m2/g－ 150m2/g。氧化錫多孔薄膜的制備方法，將錫源和有機酸置于反應器中在100－280℃在下攪拌溶解得到錫的有機物前驅體，將上述前驅體放入馬弗爐內在大于 300℃條件下控溫燒結，制成氧化錫多孔薄膜。有機酸為檸檬酸或者烏頭酸。錫源為金屬錫、二氯化錫、四氯化錫中的任一種。本發(fā)明可用于氣敏元件、鋰電池陰極材料、催化、分離吸附、光學及環(huán)境污染治理等領域。

聲明：

“氧化錫多孔薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)