本發(fā)明公開一種鈮酸鋰周期光柵結(jié)構(gòu)的制備方法。該方法選取合適尺寸的Y36°和Y128°切向的同成份鈮酸鋰晶片作為基底,在225℃下質(zhì)子交換3個(gè)小時(shí),然后采用濕法刻蝕的方法,即將樣品放入HF?HNO3混合刻蝕液中10個(gè)小時(shí),得到周期光柵結(jié)構(gòu)。本發(fā)明基于濕法刻蝕法制作周期光柵,該制作方法操作簡(jiǎn)便,無需掩模光刻,刻蝕的選擇性好,成本較低,有利于推廣和應(yīng)用。
聲明:
“鈮酸鋰周期光柵結(jié)構(gòu)的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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