本發(fā)明屬于鋰離子技術領域,尤其涉及一種摻硅補鋰負極片及其制備方法以及鋰離子電池,從上至下依次包括第一摻硅涂層、第一負極集流體、補鋰層、第二負極集流體和第二摻硅涂層。本發(fā)明的摻硅補鋰負極片兩外側設置有第一摻硅涂層和第二摻硅涂層,內側設置有補鋰層,具有高的克容量、首次效率、循環(huán)穩(wěn)定性以及安全性。
聲明:
“摻硅補鋰負極片及其制備方法以及鋰離子電池” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)