本發(fā)明公開了應用于表面改性的低熔點低膨脹系數(shù)光學玻璃及其制備方法。該方法按氧化物及其質(zhì)量百分比用量配料:Bi2O3?68~72%、B2O3?14~15%、BaO?8~12%、SiO2?1.5~2%、MgO?1~1.8%、TiO2?0~1%、CuO?0.1~0.2%和Li2O?0~2.4%;然后混粉、預熱與添料、澄清、澆制以及退火處理;制得低熔點低膨脹系數(shù)玻璃的氧化鉍體系光學玻璃,30℃~300℃的熱膨脹系數(shù)在107.46×10‐7/℃~118.66×10‐7/℃之間,軟化點在500~535℃之間,與碳化硅鋁基
復合材料的潤濕角為100°~118°,復合溫度為550℃~580℃。
聲明:
“應用于表面改性的低熔點低膨脹系數(shù)光學玻璃及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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