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基于氣相沉積法制備大面積超平NiO薄膜的方法

774   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 17:44:47
一種基于氣相沉積法制備大面積超平NiO薄膜的方法,屬于有機(jī)無機(jī)復(fù)合材料和光電材料技術(shù)領(lǐng)域。通過真空蒸鍍系統(tǒng),在基底上氣相沉積一層金屬Ni,經(jīng)由高溫氧化制備了致密、平整的NiO薄膜,此薄膜具有良好的p型半導(dǎo)體特性。相比旋涂法制備的NiO薄膜,氣相沉積的大面積NiO表面更加致密平整,粗糙度大大降低,更有利于NiO對空穴的抽取,促進(jìn)高效的電荷分離與傳輸。該工作為制備大面積均勻致密的NiO薄膜提供了一種全新解決方案。
聲明:
“基于氣相沉積法制備大面積超平NiO薄膜的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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