本實(shí)用新型公開一種用于制備大尺寸C/C
復(fù)合材料的CVD沉積爐裝置,包括爐體,爐體內(nèi)部固定設(shè)置有分流板,分流板將爐體內(nèi)部分為混氣室和沉積室,沉積室設(shè)置在混氣室上方;進(jìn)氣組件包括進(jìn)氣嘴,進(jìn)氣嘴包括固定板以及固定設(shè)置在固定板一側(cè)的若干組螺旋片,相鄰兩組螺旋片之間設(shè)置有螺旋通道,固定板的中部開設(shè)有進(jìn)氣口,進(jìn)氣口連接有進(jìn)氣管,進(jìn)氣口與螺旋通道連通。本實(shí)用新型通過(guò)螺旋狀結(jié)構(gòu)的進(jìn)氣嘴對(duì)工藝氣體進(jìn)行氣體擾動(dòng),提高擴(kuò)散到混氣室工藝氣體的均勻性,提高后期擴(kuò)散到沉積室的均勻性。
聲明:
“用于制備大尺寸C/C復(fù)合材料的CVD沉積爐裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)