本發(fā)明涉及一種光磁響應(yīng)的自修復(fù)形狀記憶
復(fù)合材料及其制備和應(yīng)用,屬于功能復(fù)合材料技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提供一種光磁響應(yīng)的自修復(fù)形狀記憶復(fù)合材料,所述復(fù)合材料包括下述比例的原料:形狀記憶聚合物基體100重量份,功能填料1~20重量份;其中,所述功能填料為能夠同時(shí)響應(yīng)光和磁刺激的填料。本發(fā)明所得光磁響應(yīng)的自修復(fù)形狀記憶復(fù)合材料可同時(shí)響應(yīng)光和磁刺激,協(xié)同控制實(shí)現(xiàn)形狀重構(gòu)和可逆變化,同時(shí)具有優(yōu)異的形狀記憶輔助自修復(fù)性能。
聲明:
“光磁響應(yīng)的自修復(fù)形狀記憶復(fù)合材料及其制備和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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