一種多項式擬合的納米隨機表面光學特性快速預測算法。該方法以
電化學制備納米隨機表面為基礎,以襯底材料和加工條件(反應溫度、直流電壓、電解液種類和濃度以及加工時間)作為輸入,納米隨機表面的微觀形貌結構參數(shù)和反射光譜為輸出組成一一對應的數(shù)據(jù)庫,構建以輸入條件組合的多項式模型。該模型不但能預測納米隨機表面的微觀形貌結構參數(shù),還可以預定納米隨機表面的微觀形貌結構逆向求解輸入條件。本發(fā)明可以大大節(jié)省隨機納米
功能材料的設計成本、加工成本和測試成本,在緊湊型光譜儀、吸波材料、電磁隔離材料、仿生材料領域具有重要應用價值。
聲明:
“多項式擬合的納米隨機表面光學特性快速預測算法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)