本發(fā)明名稱為“透明導電膜的等離子體增強化學氣相沉積設備”,屬于光電
功能材料的規(guī)?;a設備。本發(fā)明為實施特殊金屬氧化物薄膜的制造技術,著重解決大面積薄膜的性能優(yōu)良,厚度均勻及廢氣排放等問題。其特點在于設置了特殊的均壓噴口,用接地電極對射頻電極進行充分的屏蔽、安裝冷阱捕集反應廢氣。本發(fā)明適用于多種氧化物薄膜的大面積制造。
聲明:
“透明導電膜的等離子體增強化學氣相沉積設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)