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通用的多種材料間全限制納米線的自對準制備方法

1128 編輯：管理員來源：中冶有色技術網

2023-03-18 15:02:30

一種通用的多種材料間全限制納米線的自對準制備方法，該方法包括：在襯底上生長電熱絕緣材料層及再淀積第一功能材料層；旋涂光刻膠作為犧牲層，光刻，形成條形的光刻膠掩模；通過干法刻蝕第一功能材料層至電熱絕緣材料層的上表面，使第一功能材料層形成條形結構；淀積第二功能材料層；旋涂SU-8膠并電子束曝光，在條形的光刻膠掩模結構上部，制備出納米量級的條形膠條，該條形膠條垂直并跨越條形光刻膠掩模；用該條形膠條做掩模，干法刻蝕第二功能材料層至電熱絕緣材料層的表面；去除光刻膠掩模，暴露出第二功能材料層下方以外的第一功能材料層，使第二功能材料層下方形成一個懸空結構；干法刻蝕去除條形膠條下方以外的第一功能材料層；超聲-剝離，完成制備。

聲明：

“通用的多種材料間全限制納米線的自對準制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)