1.本實(shí)用新型屬于礦漿濃度細(xì)度測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及金屬山以及非金屬礦山和相應(yīng)的工業(yè)生產(chǎn)濃度細(xì)度的測(cè)量。
背景技術(shù):
2.礦漿的濃度和細(xì)度是選礦時(shí)的參考指標(biāo)和判斷依據(jù)。在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)過(guò)程中,準(zhǔn)確及時(shí)的測(cè)出礦漿的濃度細(xì)度,對(duì)后續(xù)的
浮選等一系列作業(yè)有著至關(guān)重要的意義。但現(xiàn)場(chǎng)往往在測(cè)量濃度細(xì)度之時(shí)采用人工測(cè)量,人為影響因素大,且效率低下,工作量繁復(fù),浪費(fèi)了大量的人力和時(shí)間。不利于連續(xù)性作業(yè)。因此我司決定研制一款高效、準(zhǔn)確、及時(shí)的礦漿濃度、細(xì)度測(cè)量?jī)x。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
3.本實(shí)用新型的目的是提供一款礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的礦漿的濃度和細(xì)度采用人工測(cè)量,人為影響因素大,且效率低下,工作量繁復(fù),浪費(fèi)了大量的人力和時(shí)間的問(wèn)題。
4.本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是,礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,包括排污底座,排污底座底部設(shè)置有排污口,排污底座頂部設(shè)置有腔體,腔體內(nèi)部靠近底部位置處設(shè)置有細(xì)顆粒腔體和粗顆粒腔體,細(xì)顆粒腔體和粗顆粒腔體為嵌套設(shè)置,細(xì)顆粒腔體位于粗顆粒腔體外部,腔體上部側(cè)壁開(kāi)設(shè)有進(jìn)漿/進(jìn)水口,腔體下部設(shè)置有溢流口,腔體靠近底部側(cè)壁位置處還通過(guò)管道與排污底座連通,腔體頂部設(shè)置有電機(jī),電機(jī)輸出軸上連接有內(nèi)攪拌器,內(nèi)攪拌器伸入腔體內(nèi)部。
5.本實(shí)用新型的特點(diǎn)還在于,
6.溢流口開(kāi)口位置位于細(xì)顆粒腔體上部。
7.腔體與排污底座連通的管道上還設(shè)置有電磁閥和濁度計(jì),電磁閥和濁度計(jì)均與plc單片機(jī)控制器連接。
8.腔體內(nèi)還設(shè)置有?200目篩網(wǎng),?200目篩網(wǎng)位于細(xì)顆粒腔體和粗顆粒腔體之間。
9.?200目篩網(wǎng)底部還設(shè)置有閥蓋。
10.排污口處設(shè)置有電磁開(kāi)關(guān),電磁開(kāi)關(guān)與plc單片機(jī)控制器連接。
11.排污底座上還設(shè)置有重力傳感器。
12.本實(shí)用新型的有益效果是,礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,現(xiàn)場(chǎng)往往在測(cè)量濃度細(xì)度之時(shí)采用人工測(cè)量,人為影響因素大,且效率低下,工作量繁復(fù),浪費(fèi)了大量的人力和時(shí)間。不利于連續(xù)性作業(yè)。本產(chǎn)品出現(xiàn)之后,使?jié)舛燃?xì)度測(cè)量更加智能化,精確化,節(jié)約人力物力,有利于礦山智能化的建設(shè)。
附圖說(shuō)明
13.圖1是本實(shí)用新型礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x結(jié)構(gòu)示意圖。
14.圖中,1.進(jìn)漿/進(jìn)水口,2.細(xì)顆粒腔體,3.溢流口,4.閥蓋,5.重力傳感器,6.排污底座,7.電機(jī),8.內(nèi)攪拌器,9.?200目篩網(wǎng),10.粗顆粒腔體,11.電磁閥,12.濁度計(jì),13.電磁開(kāi)關(guān),14.排污口。
具體實(shí)施方式
15.下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
16.本實(shí)用新型礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,結(jié)構(gòu)如圖1所示,包括排污底座6,排污底座6底部設(shè)置有排污口14,排污底座6頂部設(shè)置有腔體,腔體內(nèi)部靠近底部位置處設(shè)置有細(xì)顆粒腔體2和粗顆粒腔體10,細(xì)顆粒腔體2和粗顆粒腔體10為嵌套設(shè)置,細(xì)顆粒腔體2位于粗顆粒腔體10外部,腔體上部側(cè)壁開(kāi)設(shè)有進(jìn)漿/進(jìn)水口1,腔體下部設(shè)置有溢流口3,腔體靠近底部側(cè)壁位置處還通過(guò)管道與排污底座6連通,腔體頂部設(shè)置有電機(jī)7,電機(jī)7輸出軸上連接有內(nèi)攪拌器8,內(nèi)攪拌器8伸入腔體內(nèi)部。
17.溢流口3開(kāi)口位置位于細(xì)顆粒腔體2上部。
18.腔體與排污底座6連通的管道上還設(shè)置有電磁閥11和濁度計(jì)12,電磁閥11和濁度計(jì)12均與plc單片機(jī)控制器連接。
19.腔體內(nèi)還設(shè)置有?200目篩網(wǎng)9,?200目篩網(wǎng)9位于細(xì)顆粒腔體2和粗顆粒腔體10之間。
20.?200目篩網(wǎng)9底部還設(shè)置有閥蓋4。
21.排污口14處設(shè)置有電磁開(kāi)關(guān)13,電磁開(kāi)關(guān)13與plc單片機(jī)控制器連接。
22.排污底座6上還設(shè)置有重力傳感器5。
23.礦漿通過(guò)進(jìn)漿口進(jìn)入礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x內(nèi)部,當(dāng)?shù)V漿溢流之后,信號(hào)反饋給plc單片機(jī)控制器,隨后礦漿停止進(jìn)入。重力傳感器5測(cè)量出第一次的重量反饋給plc單片機(jī)控制器,plc單片機(jī)控制器將對(duì)應(yīng)的重量轉(zhuǎn)換為濃度。重力傳感器5位于排污底座6之上。
24.一次測(cè)量之后,電機(jī)帶動(dòng)內(nèi)攪拌器開(kāi)始作業(yè),同時(shí)plc單片機(jī)控制器控制電磁閥打開(kāi),進(jìn)水口開(kāi)始進(jìn)清水沖洗,清水量進(jìn)入量通過(guò)plc單片機(jī)控制器控制,使水量保持在溢流口之下。在開(kāi)始沖洗的過(guò)程中,濁度計(jì)12開(kāi)始工作,將所測(cè)的濁度數(shù)據(jù)傳給對(duì)應(yīng)的plc單片機(jī)控制器。當(dāng)對(duì)應(yīng)的濁度計(jì)數(shù)據(jù)達(dá)到要求之后,plc單片機(jī)控制器控制內(nèi)攪拌器8暫停運(yùn)轉(zhuǎn),電磁閥11關(guān)閉。進(jìn)水口清流達(dá)到溢流之后,將信號(hào)反饋給對(duì)應(yīng)的plc單片機(jī)控制器,隨后清水停止進(jìn)入。此時(shí)重力傳感器5測(cè)量出對(duì)應(yīng)的第二次質(zhì)量,傳送到plc單片機(jī)控制器,將二次測(cè)量的重量轉(zhuǎn)換為相應(yīng)的細(xì)度。閥蓋4位于篩網(wǎng)底部,得出細(xì)度之后,此時(shí)內(nèi)部閥蓋在plc單片機(jī)控制器的控制之下打開(kāi),同時(shí)進(jìn)水口進(jìn)清水進(jìn)行沖洗,排除內(nèi)部粗顆粒腔體中的篩上礦漿。等排除完成之后,濁度計(jì)12將信號(hào)反饋給plc單片機(jī)控制器,閥蓋4在plc單片機(jī)控制器的控制下關(guān)閉。完成整個(gè)過(guò)程之后,經(jīng)過(guò)plc單片機(jī)控制器處理,相對(duì)應(yīng)的重量轉(zhuǎn)換為所需的濃度和細(xì)度,顯示在顯示器之上并存儲(chǔ)在plc單片機(jī)控制器內(nèi)部。
25.濃度計(jì)算公式:
26.一次測(cè)量:設(shè)礦漿的密度為p礦1,一次測(cè)量的濃度壺總重為m1,濃度壺的重量為m壺,濃度壺的體積為v瓶,礦漿的濃度設(shè)為c礦,水的密度為p水,礦的密度為p礦,篩上干礦重量為m干,總的干礦質(zhì)量為m總,二次測(cè)量設(shè)礦漿的密度為p礦2,濃度壺的重量為m壺,總重為m2,礦漿的濃度設(shè)為c礦2,在實(shí)際生產(chǎn)中,水的密度可以認(rèn)為是1,礦的密度也可以通過(guò)相應(yīng)的方式直接測(cè)量出來(lái),所以都可以視為已知量。
27.根據(jù)密度對(duì)應(yīng)關(guān)系可以得出p礦1=(m1?m壺)/v瓶=(m1?m壺)/{(m1?m壺)*c礦)/p礦+(m1?m壺)*(1?c礦)/p水)}。
28.在上述公式中只有一次礦漿的濃度為未知量,因而可以將一次測(cè)量的重量根據(jù)公式編程得出礦漿的濃度。
29.細(xì)度分析如下:
30.濃度細(xì)度的計(jì)算公式可以根據(jù)密度的不同計(jì)算公式,以密度為媒介,間接的測(cè)量出濃度,待到第二次測(cè)量時(shí),以同樣的方式測(cè)量出濃度,然后篩上的干礦量。計(jì)算出篩上物體的百分含量之后用1減去篩上物體的百分含量,就可以求出細(xì)度。具體計(jì)算如下;
31.同理算出二次測(cè)量的礦漿濃度。p礦2=(m2?m壺)/v瓶=(m2?m壺)/{(m2?m壺)*c礦2)/p礦+(m2?m壺)*(1?c礦2)/p水)}帶入m干=(m2?m壺)*c礦2,算出干礦重量。
32.m總=(m1?m壺)*c礦
33.細(xì)度=1?(m干/m總)
34.設(shè)想,后期通過(guò)壓力傳感器,直接讀出第一次,第二次測(cè)量的結(jié)果。在編程的時(shí)候直接省略,簡(jiǎn)化公式。將壺的質(zhì)量可以變成0,使得效率能高點(diǎn)。
35.礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x的測(cè)量范圍五公斤之內(nèi)(根據(jù)實(shí)際的需求可以進(jìn)行定做,單純的測(cè)量簡(jiǎn)單濃度細(xì)度,可以將測(cè)量?jī)x的體積縮小為二公斤)精確度為0.01.其應(yīng)用于礦山之后,減少了測(cè)量人員的負(fù)擔(dān),節(jié)省了成本。濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x測(cè)量出濃度細(xì)度之后,可快速準(zhǔn)確的對(duì)磨礦進(jìn)行調(diào)節(jié),使礦漿穩(wěn)定在合適的濃度范圍之內(nèi),磨礦穩(wěn)定,有利于浮選指標(biāo)的穩(wěn)定,從而可以產(chǎn)生更大的經(jīng)濟(jì)效益。技術(shù)特征:
1.礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,其特征在于,包括排污底座(6),排污底座(6)底部設(shè)置有排污口(14),排污底座(6)頂部設(shè)置有腔體,腔體內(nèi)部靠近底部位置處設(shè)置有細(xì)顆粒腔體(2)和粗顆粒腔體(10),細(xì)顆粒腔體(2)和粗顆粒腔體(10)為嵌套設(shè)置,細(xì)顆粒腔體(2)位于粗顆粒腔體(10)外部,腔體上部側(cè)壁開(kāi)設(shè)有進(jìn)漿/進(jìn)水口(1),腔體下部設(shè)置有溢流口(3),腔體靠近底部側(cè)壁位置處還通過(guò)管道與排污底座(6)連通,腔體頂部設(shè)置有電機(jī)(7),電機(jī)(7)輸出軸上連接有內(nèi)攪拌器(8),內(nèi)攪拌器(8)伸入腔體內(nèi)部。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述溢流口(3)開(kāi)口位置位于細(xì)顆粒腔體(2)上部。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述腔體與排污底座(6)連通的管道上還設(shè)置有電磁閥(11)和濁度計(jì)(12),電磁閥(11)和濁度計(jì)(12)均與plc單片機(jī)控制器連接。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述腔體內(nèi)還設(shè)置有?200目篩網(wǎng)(9),?200目篩網(wǎng)(9)位于細(xì)顆粒腔體(2)和粗顆粒腔體(10)之間。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述?200目篩網(wǎng)(9)底部還設(shè)置有閥蓋(4)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述排污口(14)處設(shè)置有電磁開(kāi)關(guān)(13),電磁開(kāi)關(guān)(13)與plc單片機(jī)控制器連接。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,其特征在于,所述排污底座(6)上還設(shè)置有重力傳感器(5)。
技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開(kāi)了提供一種礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x,包括排污底座,排污底座底部設(shè)置有排污口,排污底座頂部設(shè)置有腔體,腔體內(nèi)部靠近底部位置處設(shè)置有細(xì)顆粒腔體和粗顆粒腔體,細(xì)顆粒腔體和粗顆粒腔體為嵌套設(shè)置,細(xì)顆粒腔體位于粗顆粒腔體外部,腔體上部側(cè)壁開(kāi)設(shè)有進(jìn)漿/進(jìn)水口,腔體下部設(shè)置有溢流口,腔體靠近底部側(cè)壁位置處還通過(guò)管道與排污底座連通,腔體頂部設(shè)置有電機(jī),電機(jī)輸出軸上連接有內(nèi)攪拌器,內(nèi)攪拌器伸入腔體內(nèi)部。本實(shí)用新型解決了現(xiàn)有技術(shù)中存在的礦漿的濃度和細(xì)度采用人工測(cè)量,人為影響因素大,且效率低下,工作量繁復(fù),浪費(fèi)了大量的人力和時(shí)間的問(wèn)題。浪費(fèi)了大量的人力和時(shí)間的問(wèn)題。浪費(fèi)了大量的人力和時(shí)間的問(wèn)題。
技術(shù)研發(fā)人員:王朝云 田銳
受保護(hù)的技術(shù)使用者:西安四海長(zhǎng)豐科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2021.04.15
技術(shù)公布日:2021/11/5
聲明:
“礦漿濃度細(xì)度測(cè)量?jī)x的制作方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)