本發(fā)明公開了一種氧化鎳電致變色薄膜及其制備方法與應(yīng)用。所述制備方法包括:以共摻雜的M
xT
yNi
zO為靶材(其中,M為鋰、鈉、鉀、銣、銫中的至少一種,T為鋁、硅、鋯中的至少一種),采用磁控濺射在透明導(dǎo)電基體表面沉積形成薄膜,接著,在空氣條件下進行快速熱退火處理,獲得共摻雜氧化鎳電致變色薄膜,該薄膜具有較高的氧化鎳(111)擇優(yōu)取向生長以及有均勻分布針孔的光滑緊實的結(jié)構(gòu),有助于提升薄膜的電致變色響應(yīng)速度、褪色態(tài)透過率、光學(xué)調(diào)制幅度、電荷容量以及循環(huán)穩(wěn)定性。
聲明:
“氧化鎳電致變色薄膜及其制備方法與應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)