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單晶的成長方法及單晶的提拉裝置

1018   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 23:35:23
本發(fā)明關(guān)于一種單晶硅的成長方法及提拉裝置,該單晶硅的成長方法根據(jù)切克勞斯基法,將單晶從已在石英坩堝內(nèi)熔融的硅原料的熔融液提拉而使其成長,其特征在于:以上述石英坩堝的外壁側(cè)為正極,并以電極側(cè)為負(fù)極的方式,施加直流電壓,一邊使電流從上述電極流過一邊根據(jù)上述提拉軸來使單晶硅成長;并且,該電極是與用以提拉上述單晶的提拉軸分開設(shè)置,且被浸漬于上述硅原料的熔融液中。由此,在單晶硅的成長過程中,通過使適當(dāng)?shù)慕Y(jié)晶化層即失透發(fā)生在石英坩堝的內(nèi)壁表面,同時防止鋰等的堿金屬混入單晶硅中,能提高單晶產(chǎn)率與生產(chǎn)性,并且在切片成芯片后的熱氧化處理中,能抑制氧化膜的異常成長。
聲明:
“單晶的成長方法及單晶的提拉裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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