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多層薄膜調(diào)制周期及其均勻性的測量方法

809   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 23:11:36
本發(fā)明提供了一種多層薄膜調(diào)制周期及其均勻性的測量方法,是將氟化鋰粉末壓制成圓柱形靶塊,表面加工成凹錐形,得氟化鋰靶塊;將氟化鋰靶塊安裝至加速器的離子源的靶頭處,引出負(fù)鋰離子束流,充入氮氣,使鋰離子束在加速器管內(nèi)經(jīng)剝離氣體碰撞剝離后得到二價的Li2+正離子束;再將待測量的多層薄膜放置在盧瑟福背散射測量靶室中的樣品臺上,用束流積分儀測量Li2+束的束流,形成RBS譜,進(jìn)而得出多層膜的調(diào)制周期及均勻性信息。本方法用RBS測量薄膜的調(diào)制周期、元素分布和均勻性,其測量精度高,并且對樣品沒有損傷,是一種高精度、高品質(zhì)的無損檢測多層膜的方法。
聲明:
“多層薄膜調(diào)制周期及其均勻性的測量方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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