本發(fā)明公開(kāi)了一種大尺寸超薄鈮酸鋰基片的雙面拋光方法,包括如下步驟:a)將切割后的大尺寸超薄鈮酸鋰晶片研磨后獲得表面具有粗糙結(jié)構(gòu)的大尺寸超薄鈮酸鋰雙面研磨片;b)然后進(jìn)行雙面減薄,超聲清洗,獲得表面具有粗糙結(jié)構(gòu)的大尺寸超薄鈮酸鋰雙面減薄片;c)在盛有硝酸、氫氟酸和緩釋劑均勻混合的密閉容器中直接進(jìn)行化學(xué)腐蝕,獲得表面隨機(jī)無(wú)序凹坑結(jié)構(gòu)的大尺寸超薄鈮酸鋰腐蝕片;d)用雙面拋機(jī)和拋光液進(jìn)行雙面拋光,再進(jìn)行超聲清洗,獲得最終的大尺寸超薄鈮酸鋰雙拋片。本發(fā)明一次拋光,批量生產(chǎn),拋光效率高,生產(chǎn)的鈮酸鋰基片表面平坦度高,這一特征決定了鈮酸鋰基片在器件應(yīng)用中不易破碎,材料利用率高,加工成品率高。
聲明:
“大尺寸超薄鈮酸鋰基片的雙面拋光方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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