本發(fā)明公開了一種硅/碳基修飾的鋰金屬負(fù)極集流體及其制備方法與應(yīng)用,所述硅/碳基修飾的鋰金屬負(fù)極集流體包括銅箔集流體(1)和粘附在所述銅箔集流體(1)上的修飾層,所述修飾層由包括活性材料的硅/碳納米涂層形成,所述活性材料包括空心結(jié)構(gòu)氮摻雜碳納米球(2)、實心氧化硅/碳納米球(3)和核殼結(jié)構(gòu)氧化硅/碳?氮摻雜碳納米球(4)中的一種或多種。本發(fā)明提供鋰金屬負(fù)極集流體的修飾層中,氧化硅核具有強親鋰性,能作為親鋰位點誘導(dǎo)鋰金屬在氮摻雜碳?xì)?nèi)部的沉積;其納米尺度的結(jié)構(gòu)和排布方式提高了親鋰位點的均勻性,有利于實現(xiàn)鋰金屬的均勻成核和沉積,有效抑制鋰枝晶的生長,優(yōu)化了鋰金屬負(fù)極的
電化學(xué)性能。
聲明:
“硅/碳基修飾的鋰金屬負(fù)極集流體及其制備方法與應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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