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用于硼酸鋰銫晶體的化學(xué)機(jī)械無水拋光液及平整化方法

875   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 21:05:43
本發(fā)明公開了一種對(duì)硼酸鋰銫晶體有效的無水 拋光液及拋光方法。本發(fā)明用于硼酸鋰銫晶體的化學(xué)機(jī)械無水 拋光液的組成成分wt%如下:(a)納米 SiO2磨料4-8、(b)有機(jī)溶劑72 -95、(c)有機(jī)堿0.5-10、(d)表面活性劑0.5-10。對(duì)硼酸鋰銫 晶體進(jìn)行拋光,拋光壓力設(shè)定在0.05MPa至0.1MPa之間;拋 光盤轉(zhuǎn)速為30r/min至60r/min之間;時(shí)間設(shè)定5至10分鐘之 間。本發(fā)明為流動(dòng)性好,無毒、無污染,無腐蝕,濃度適中, 懸浮性好的無水拋光液,避免了拋光過程中由于潮解致使 CLBO晶體開裂的問題,且拋光后表面的光潔度高。
聲明:
“用于硼酸鋰銫晶體的化學(xué)機(jī)械無水拋光液及平整化方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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