本發(fā)明公開了一種磁控濺射制備超薄金屬鋰薄膜的方法及系統(tǒng)。所述方法包括:至少將基材、金屬鋰靶材置入真空環(huán)境,并通過直流磁控濺射方法,在所述基材上沉積形成超薄金屬鋰薄膜。所述系統(tǒng)包括:直流磁控濺射設(shè)備、相互配合的至少一放卷機構(gòu)和至少一收卷機構(gòu),以及至少一主輥,所述至少一放卷機構(gòu)和至少一收卷機構(gòu)置于第一真空室內(nèi),所述至少一主輥置于第二真空室內(nèi)。本發(fā)明采用磁控濺射技術(shù)沉積的金屬鋰薄膜厚度更薄,表面更加均勻平整,與基材的粘附性更好,若作為鋰二次電池的
負極材料,可使表面電流密度分布更加均勻,從而減少鋰枝晶的生成,提高電池的
電化學(xué)性能與循環(huán)壽命。
聲明:
“磁控濺射制備超薄金屬鋰薄膜的方法及系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)