本實用新型公開了一種鈮酸鋰或鉭酸鋰晶片還原黑化處理裝置,包括盛裝容器和晶片安放架,晶片安放架固定在盛裝容器內(nèi);所述晶片安放架包括兩平行且水平懸空設(shè)置的第一柱體和第二柱體;第一柱體和第二柱體上均勻設(shè)有相對設(shè)置的若干平行的晶片插槽,第一柱體和第二柱體上的晶片插槽數(shù)量相同且一一對應(yīng),第一柱體上任意一個晶片插槽與第二柱體上對應(yīng)的晶片插槽構(gòu)成一組用于插放一片晶片,任意組中的兩晶片插槽間距小于晶片直徑以防止晶片脫落。本裝置適用于采用包埋料還原黑化處理,能夠解決LN或LT晶片黑化均勻性問題。
聲明:
“鈮酸鋰或鉭酸鋰晶片還原黑化處理裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)