本發(fā)明屬于無機(jī)/聚合物光學(xué)納米
復(fù)合材料領(lǐng)域,具體涉及一種透明高折射率
石墨烯量子點(diǎn)/聚合物納米復(fù)合薄膜及其制備方法。復(fù)合薄膜是由石墨烯量子點(diǎn)和聚合物紫外固化以和熱固化后形成,在固化之前每1mL聚合物單體中,石墨烯量子點(diǎn)的含量為0.1~1g。是以石墨烯量子點(diǎn)(GQDs)作為無機(jī)納米相,以聚合物單體作為溶劑,通過溶劑熱法在聚合物單體中合成出GQDs,然后經(jīng)過過濾、旋涂、加入引發(fā)劑、紫外固化以及熱固化雙重處理直接固化成膜。所制備的膜層材料所得到的透明高折射率復(fù)合薄膜的透過率為80~95%,折射率為1.5~2.8,望在減反射涂層、光波導(dǎo)材料、光學(xué)透鏡以及其他光電領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)應(yīng)用。
聲明:
“透明高折射率石墨烯量子點(diǎn)/聚合物納米復(fù)合薄膜及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)