一種聚3?己基噻吩/自摻雜富缺陷氧化錫異質(zhì)結(jié)納米復(fù)合光催化材料的制備方法。將自摻雜富缺陷氧化錫異質(zhì)結(jié)材料通過(guò)化學(xué)鍵絡(luò)合的形式負(fù)載分散于P3HT而得到的納米
復(fù)合材料;自摻雜富缺陷氧化錫選自Sn摻雜的非化學(xué)計(jì)量比或混合價(jià)態(tài)錫氧化物組成的富缺陷氧化錫SnO
2?x;本發(fā)明利用自摻雜富缺陷氧化錫的可見(jiàn)光光催化氧化還原特性、聚?3己基噻吩的導(dǎo)電性和可見(jiàn)光催化能力,以及不同組分間具有化學(xué)鍵合的異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu),來(lái)充分抑制其光催化反應(yīng)中的光生電子?空穴復(fù)合,從而有利于提高其光催化氧化還原降解污染物和光催化分解水產(chǎn)氫的性能。同時(shí),聚3?己基噻吩易塑型的特點(diǎn)能有效避免粉體材料的回收困難問(wèn)題。
聲明:
“聚3-己基噻吩/自摻雜富缺陷氧化錫異質(zhì)結(jié)納米復(fù)合光催化材料的制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)