本發(fā)明涉及光催化領(lǐng)域,具體涉及一種二氧化鈦量子點表面暴露的晶面結(jié)構(gòu)的調(diào)控工藝及其與二維材料構(gòu)建的復(fù)合光催化劑。本發(fā)明具體公開了本發(fā)明提供二氧化鈦量子點表面暴露的晶面結(jié)構(gòu)的調(diào)控工藝,二氧化鈦量子點的尺寸在5?20nm,通過控制添加無水乙醇和去離子水混合溶液的劑量,可以調(diào)控量子點表面暴露的晶面結(jié)構(gòu)為{001}或{101}晶面,方法簡單,不含氟離子,環(huán)境友好。本發(fā)明在制備出的二氧化鈦量子點表面引入更多的氧空位,改善二氧化鈦
復(fù)合材料的界面性質(zhì),利用表面氧空位缺陷為相互作用媒介與二維材料復(fù)合,制備出具備高光催化活性的零維?二維復(fù)合光催化劑。
聲明:
“二氧化鈦量子點表面暴露的晶面結(jié)構(gòu)的調(diào)控工藝及其與二維材料構(gòu)建的復(fù)合光催化劑” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)