本發(fā)明涉及一種均勻化氮化硼涂層的制備方法。給方法以三氯化硼(BCl3)和氨氣(NH3)為反應氣體,通入反應器中,先在混合區(qū)混合均勻,再在沉積反應區(qū)發(fā)生表面沉積,最后將所得樣品進行高溫熱處理,經(jīng)掃描隧道顯微鏡(SEM)、傅立葉紅外(FT-IR)和X射線衍射(XRD)檢測,制備出厚度均勻、成分單一、結晶度較高的氮化硼涂層。此方法可用于
復合材料中氮化硼界面的制備其它樣品表面氮化硼涂層的制備,還可用于研究氮化硼氣相沉積過程及機理的研究。該方法主要解決的是雙組元化學氣相沉積氮化硼過程中氣體混合不均的問題,以提高氮化硼涂層的均勻度,更好地控制涂層厚度。
聲明:
“均勻化氮化硼涂層的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)