本發(fā)明公開了一種堿金屬插層過渡金屬二硫化物的制備方法,其特點是以二硫化物為插層主體、硼氫化物為插層客體,經(jīng)雜化反應將堿金屬離子插入到過渡金屬二硫化物無機材料的片層間,制得堿金屬離子插層二硫化物的化合物。本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比具有合成工藝安全、簡單,便于操作,擴大了二硫化物的層間距,為功能性插層
復合材料的合成提供了廉價易得的原料,有著廣闊的應用前景。
聲明:
“堿金屬插層過渡金屬二硫化物的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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