本發(fā)明公開了陽離子-陰離子復(fù)合插層型有機蒙脫石極其制備方法,該方法包括以下步驟:提純鈣基蒙脫石;對鈣基蒙脫石進行水化處理:將提純后的鈣基蒙脫石制成水懸浮液,通過機械攪拌與超聲作用混合的方式進行水化處理;制備陽離子-陰離子復(fù)合插層型有機蒙脫石材料:使用有機陽離子型表面活性劑和陰離子型表面活性劑,分別在超聲分散作用和機械攪拌作用下,依次對蒙脫石進行插層。本發(fā)明的有機蒙脫石層間距高達5.2nm以上,熱穩(wěn)定性高,在有機相中分散均勻,剝離程度高,性能優(yōu)異,可作為一種性能優(yōu)異的填料應(yīng)用到制備高分子納米
復(fù)合材料領(lǐng)域。
聲明:
“陽離子-陰離子復(fù)合插層型有機蒙脫石材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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