本實用新型公開了一種
復(fù)合材料磁控濺射鍍膜的前處理設(shè)備,包括處理箱體,所述處理箱體上設(shè)置有冷泵,所述冷泵與處理箱體內(nèi)貫通連接,所述冷泵上設(shè)置有分子泵,所述處理箱體內(nèi)設(shè)置有軌道架和離子源,所述軌道架上設(shè)置有產(chǎn)品固定架,所述軌道架帶動產(chǎn)品固定架移動,所述離子源朝向產(chǎn)品固定架設(shè)置,所述處理箱體位于產(chǎn)品固定架移動方向的兩側(cè)均設(shè)置有箱門。本實用新型能夠去除鍍膜腔體工藝溫度降低導(dǎo)致的高濕度和高放氣量,脫落空氣中游離的雜質(zhì)并抽離,提高單位腔體抽真空效率和維護(hù)真空度穩(wěn)定,從而保證后續(xù)鍍膜的良率。
聲明:
“復(fù)合材料磁控濺射鍍膜的前處理設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)