2@WS2納米復(fù)合材料的制備方法及其電解水析氫的應(yīng)用,復(fù)合材料"> 2@WS2納米復(fù)合材料的制備方法及其電解水析氫的應(yīng)用,一種TiO?@WS?納米復(fù)合材料,制備過(guò)程需先合成出TiO?納米帶,再用稀硫酸溶液進(jìn)行刻蝕,使光滑的TiO?納米帶表面粗糙,有助于WS?納米片在其上附著均勻生長(zhǎng);本發(fā)明的TiO?@WS?納米復(fù)合材料經(jīng)X射線粉末衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)表征,結(jié)果表明所制備材料以TiO?納米帶為基底表面原位合成WS?納米片,WS?納米片更趨向于沿著TiO?納米帶軸包覆生長(zhǎng),賦予其大量暴露的活性邊緣點(diǎn),WS?獨(dú)特的片狀結(jié)構(gòu)可以增強(qiáng)表面積">

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TiO2@WS2納米復(fù)合材料的制備方法及其電解水析氫的應(yīng)用

1138   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 16:24:02
一種TiO?@WS?納米復(fù)合材料,制備過(guò)程需先合成出TiO?納米帶,再用稀硫酸溶液進(jìn)行刻蝕,使光滑的TiO?納米帶表面粗糙,有助于WS?納米片在其上附著均勻生長(zhǎng);本發(fā)明的TiO?@WS?納米復(fù)合材料經(jīng)X射線粉末衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)表征,結(jié)果表明所制備材料以TiO?納米帶為基底表面原位合成WS?納米片,WS?納米片更趨向于沿著TiO?納米帶軸包覆生長(zhǎng),賦予其大量暴露的活性邊緣點(diǎn),WS?獨(dú)特的片狀結(jié)構(gòu)可以增強(qiáng)表面積并產(chǎn)生更多活性位點(diǎn)以更好地電解質(zhì)滲透,在電解水析氫具有潛在的應(yīng)用。
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“TiO2@WS2納米復(fù)合材料的制備方法及其電解水析氫的應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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