本發(fā)明涉及一種在基體材料上形成的高精度抗高溫?zé)g涂層、其制備方法和包含該涂層的
復(fù)合材料。高精度抗高溫?zé)g涂層包括在基體材料上形成的硅基過(guò)渡層和在過(guò)渡層上形成的包含碳化鉿和碳化鉭的超高溫陶瓷面層。所述方法包括:采用硅基陶瓷前驅(qū)體通過(guò)浸漬?固化?裂解制備過(guò)渡層;采用鉿鉭陶瓷前驅(qū)體通過(guò)浸漬?固化?裂解制備超高溫陶瓷面層。本發(fā)明還涉及包含所述涂層的復(fù)合材料。本發(fā)明中的高精度抗高溫?zé)g涂層具有孔隙率低、表面粗糙度低、高精度抗高溫?zé)g性能優(yōu)異等優(yōu)點(diǎn);本發(fā)明方法具有制備周期短、涂層厚度及結(jié)構(gòu)可控、可實(shí)現(xiàn)凈尺寸成型等優(yōu)點(diǎn)。
聲明:
“在基體材料上形成的高精度抗高溫?zé)g涂層、其制備方法和包含該涂層的復(fù)合材料” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)