本發(fā)明公開(kāi)了一種可控合成Ag@ZIF?8納米
復(fù)合材料的微流控
芯片的制備方法。本發(fā)明的特征在于,所述微流控芯片設(shè)置有ZIF?8微液滴形成區(qū),ZIF?8多面體混合反應(yīng)區(qū),Ag@ZIF?8微液滴形成區(qū),Ag@ZIF?8納米復(fù)合材料混合反應(yīng)區(qū),實(shí)現(xiàn)了微流控芯片對(duì)納米復(fù)合材料合成的有效控制。合成反應(yīng)在微流控通道內(nèi)多級(jí)分步進(jìn)行,首先,ZIF?8多面體在室溫條件下于微流控通道內(nèi)制備;然后,在紫外光照條件下,將Ag納米顆粒負(fù)載于ZIF?8多面體表面。本發(fā)明設(shè)計(jì)的微流控芯片結(jié)構(gòu)優(yōu)化,操作方便,實(shí)現(xiàn)了多級(jí)分步進(jìn)料,能夠合成分散性好,尺寸大小均勻的納米復(fù)合材料。另外,通過(guò)改變反應(yīng)溶液的濃度、微流控管道的內(nèi)徑尺寸、反應(yīng)溶液在微流控管道內(nèi)的流速、紫外燈波長(zhǎng)和紫外燈光照時(shí)間實(shí)現(xiàn)對(duì)Ag@ZIF?8納米復(fù)合材料形貌尺寸的調(diào)控。
聲明:
“可控合成Ag@ZIF-8納米復(fù)合材料的微流控芯片的制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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