一般來(lái)說(shuō)，本發(fā)明涉及一種光學(xué)層狀復(fù)合材料，具體是用于增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)設(shè)備中的光學(xué)層狀復(fù)合材料。具體，本發(fā)明涉及一種光學(xué)層狀復(fù)合材料及其制備工藝、包括光學(xué)層狀復(fù)合材料的裝置及其制備工藝、光學(xué)層狀復(fù)合材料在增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)設(shè)備中的應(yīng)用。本發(fā)明涉及一種光學(xué)層狀復(fù)合材料，包括：i.)基底，所述基底具有正面、背面、所述正面和所述背面之間的厚度d_s和折射率n_s，以及ii.)涂覆在所述正面的涂層，所述涂層包括一個(gè)或多個(gè)涂覆層，其中，對(duì)于390nm至700nm范圍內(nèi)的至少一個(gè)波長(zhǎng)λ_g，所述涂層滿足以下標(biāo)準(zhǔn)：E.v.)n_c<n_s；或vi.)n_c>n_s，其中，n_c是所述涂層厚度加權(quán)后的平均折射率；d_c是所述涂層的總厚度；厚度是在垂直于所述正面的方向上確定的；k＝λ_g/4π。