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以水滑石為模板的金屬硫化物半導體納米復合材料及其制備方法

961 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-18 15:18:02

本發(fā)明提供了一種以水滑石為模板的金屬硫化物半導體納米復合材料及其制備方法，屬于半導體復合材料技術領域。本發(fā)明以LDHs為模板，將金屬配合物陰離子經(jīng)離子交換取代NO3－或者Cl－進入水滑石層間，構(gòu)成金屬配合物陰離子占層間陰離子摩爾數(shù)總數(shù)40－100％的層狀粉體材料，再向粉體中通入足量H2S氣體，經(jīng)氣固相反應得到半導體納米粒子插層水滑石。優(yōu)點在于：把具有優(yōu)異光電性能及催化性能的II－VI族半導體納米粒子組裝進入水滑石層間，實現(xiàn)II－VI族半導體納米粒子在水滑石層間的高度分散；同時還可調(diào)變層板金屬及有機配體制備得到半導體納米粒子分散均勻、粒徑可調(diào)的有機—無機半導體納米復合材料。

聲明：

“以水滑石為模板的金屬硫化物半導體納米復合材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)