本發(fā)明提供了一種超支化聚胺酯/鑭/蒙脫土三元納米
復(fù)合材料的制備方法,該方法以超支化聚胺酯(HPAE)樹(shù)形分子為有機(jī)相,包覆
稀土粒子鑭(LA),并與蒙脫土(MMT)發(fā)生插層復(fù)合而得。本發(fā)明的方法制備的超支化聚胺酯/鑭/蒙脫土三元納米復(fù)合材料,經(jīng)TEM、TGA、DSC、UV-VIS和FT-IR,測(cè)試結(jié)果表明,以超支化分子保護(hù)的稀土粒子LA插入到蒙脫土層間,并均勻地以納米級(jí)分布;其穩(wěn)定性好、微觀分布均勻、光學(xué)活性高,可應(yīng)用于制備稀土永磁材料和熒光材料。
聲明:
“超支化聚胺酯/鑭/蒙脫土元納米復(fù)合材料及其制備” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)