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接觸孔及其制作方法

1087 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-18 15:10:02

本發(fā)明公開了一種接觸孔的制作方法，包括如下步驟：S01：提供襯底，在所述襯底上形成下層導電電極；S02：在所述下層導電電極上沉積第一薄膜層，并在所述第一薄膜層上刻蝕出貫穿所述第一薄膜層的接觸大孔；S03：在所述第一薄膜層上沉積第二薄膜層并刻蝕，使得所述第二薄膜層在所述接觸大孔的側(cè)壁上形成緩變臺階；且所述緩變臺階的頂部開口面積大于底部開口面積；S04：沉積功能層，并在接觸大孔底部形成貫穿所述功能層的接觸小孔；S05：沉積上層導電電極，所述上層導電電極通過所述接觸小孔連接所述下層導電電極。本發(fā)明提供的一種接觸孔及其制作方法，確保接觸孔中上層導電電極不發(fā)生斷裂，以提升器件良率和可靠性。

聲明：

“接觸孔及其制作方法” 該技術專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)