本申請公開了一種流體處理裝置及其制備方法。所述流體處理裝置包括:具有第一流體通道的基體;彼此間隔的若干凸起部,所述凸起部沿橫向在該基體的第一表面上連續(xù)延伸,其上部設(shè)有帽形結(jié)構(gòu),所述帽形結(jié)構(gòu)的相背對的兩側(cè)部沿側(cè)向外延,而相鄰帽形結(jié)構(gòu)之間形成有可供流體通過的開口部,其中至少兩個凸起部分別設(shè)于第一流體通道的流體入口兩側(cè),至少一凸起部直接從第一流體通道的流體入口上通過,從而使這些帽形結(jié)構(gòu)、凸起部與基體之間配合形成第二流體通道,待處理的流體僅能通過第二流體通道進入第一流體通道。本申請的流體處理裝置具有通量大、流阻小、能高效清除流體中微/納米級顆粒等特點,可重復(fù)使用,使用壽命長,且適于規(guī)?;笈可a(chǎn)。
聲明:
“流體處理裝置及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)