本發(fā)明公開了一種基于液相外延法生長(zhǎng)鐵氧體單晶厚膜的高溫退火方法,屬于磁性
功能材料技術(shù)領(lǐng)域,該方法包括:以GGG或SGGG為襯底,采用液相外延法制備百微米級(jí)鐵氧體單晶厚膜,在惰性氣體、氧氣混合氣氛下進(jìn)行階梯式升降溫退火處理,再經(jīng)酸煮、清洗得到表面光滑平整的鐵氧體單晶厚膜;經(jīng)本發(fā)明退火處理的單晶厚膜厚,介電損耗、鐵磁共振線寬、光損耗降低,累積應(yīng)力得以釋放,使單晶膜質(zhì)量得以顯著提升。
聲明:
“基于液相外延法生長(zhǎng)鐵氧體單晶厚膜的高溫退火方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)