本發(fā)明涉及一種單孔中空硼親和印跡聚合物的制備方法和應(yīng)用,尤其涉及蒸餾?沉淀聚合制備單孔中空硼親和分子印跡聚合物的方法,屬于生物醫(yī)藥
功能材料制備技術(shù)領(lǐng)域;本發(fā)明專利首先通過(guò)DPP利用4?乙烯基苯硼酸單體引發(fā)聚合包覆在羧基封端的聚苯乙烯球模板表面;此外,在DPP的過(guò)程中,伴隨的微相分離效應(yīng)和殼材料的對(duì)稱體積收縮誘導(dǎo)了聚合物殼中孔的產(chǎn)生,通過(guò)THF蝕刻帶孔的聚合物殼即可獲得單孔中空硼親和印跡聚合物;然后將單孔中空硼親和印跡聚合物密封在透析袋中用于選擇性分離純化LTL;本發(fā)明制備的單孔中空硼親和印跡聚合物克服了現(xiàn)有常見(jiàn)分子印跡吸附劑對(duì)LTL吸附分離動(dòng)力學(xué)低、飽和容量小和選擇性差等問(wèn)題。
聲明:
“單孔中空硼親和印跡聚合物的制備方法和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)