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紅外低發(fā)射率MXene薄膜及其制備方法

650   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-18 15:07:01
本發(fā)明涉及功能材料領(lǐng)域,尤其涉及一種用于紅外隱身與熱偽裝的紅外低發(fā)射率MXene薄膜及其制備方法。一種紅外低發(fā)射率MXene薄膜的制備方法,包括如下步驟:將MXene溶液倒入放置有濾膜的抽濾瓶中,通過真空抽濾將MXene均勻地負(fù)載到濾膜表面并在濾膜表面形成MXene薄層;然后,將干燥后的MXene薄層與濾膜分離,即得MXene薄膜。本發(fā)明制備出的MXene薄膜在7~14um紅外波段內(nèi)的發(fā)射率為0.05~0.5;該制備方法反應(yīng)平穩(wěn)、簡(jiǎn)單易操作,工藝安全、方便、環(huán)保,所得產(chǎn)品均一性好;原材料來源廣泛,可用于規(guī)?;褂?,利于推廣。
聲明:
“紅外低發(fā)射率MXene薄膜及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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