一種高分辨率超長(zhǎng)一維納米圖案制備方法,其特征是包括如下步驟:步驟1)在平整襯底(1)上交替沉積不可腐蝕納米薄膜層(2)和可腐蝕納米薄膜層(3);步驟2)切開(kāi)平整襯底(1)、不可腐蝕納米薄膜層(2)和可腐蝕納米薄膜層(3),在斷口選擇性地對(duì)可腐蝕納米薄膜層(3)進(jìn)行腐蝕,使得其與不可腐蝕納米薄膜層(2)之間形成落差。本發(fā)明方法可應(yīng)用于高分辨率超長(zhǎng)多種一維納米圖案的制備,且該方法制備分辨率高,工藝簡(jiǎn)單,能高效率,低成本地在多種
功能材料表面制備一維納米圖案,能夠很好的滿(mǎn)足實(shí)際需求。
聲明:
“高分辨率超長(zhǎng)一維納米圖案制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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