本發(fā)明公開了一種銀納米線/二硫化鉬
復(fù)合材料表面增強(qiáng)拉曼散射基底及制備方法,屬于檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,該基底為層狀結(jié)構(gòu),自下而上依次為硅層、二氧化硅層、三角形狀MoS
2層和金屬銀納米線層,三角形狀MoS
2層通過化學(xué)氣相沉積法生長(zhǎng)在二氧化硅層上,金屬銀納米線層直接沉積在三角形狀MoS
2層上。本發(fā)明所述的表面增強(qiáng)拉曼散射基底,通過在二硫化鉬納米片上耦合銀納米線形成復(fù)合材料,隨后進(jìn)行拉曼測(cè)試,二硫化鉬與銀納米線之間界面處熱點(diǎn)電場(chǎng)的增強(qiáng)從電磁增強(qiáng)方面提高SERS信號(hào)強(qiáng)度。該SERS基底材料制備重復(fù)性能高,步驟操作簡(jiǎn)單。
聲明:
“表面增強(qiáng)拉曼散射基底及制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)