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在常溫下調(diào)控氧化物材料缺陷濃度的方法

874   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 00:26:44
本發(fā)明涉及一種在常溫下調(diào)控氧化物材料缺陷濃度的方法,該方法在選定的氧化物材料中加入適量的高反應活性的金屬粉體和分散介質(zhì),研磨均勻使其充分反應,離心干燥后即可得到具有一定缺陷濃度的氧化物材料,通過調(diào)節(jié)金屬鋰粉的加入量即可調(diào)控氧化物材料中缺陷的含量。本發(fā)明的方法在研磨過程中奪取部分氧化物材料晶格中的氧,利用缺陷的引入對氧化物材料的表面結(jié)構(gòu)以及光學、電學和催化等性能進行調(diào)控,常溫下即可在氧化物材料中引入缺陷,同時具有快速、節(jié)能、環(huán)保和適用范圍廣等優(yōu)點,尤其對于材料缺陷比較敏感和材料缺陷調(diào)控相對困難的體系有更加顯著的優(yōu)勢。
聲明:
“在常溫下調(diào)控氧化物材料缺陷濃度的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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