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雙向?qū)ú蹡殴β蔒OS器件結(jié)構(gòu)及制造方法

667   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 00:19:45
本發(fā)明提供一種雙向?qū)ú蹡殴β蔒OS器件結(jié)構(gòu)及其制造方法,在硅片表面形成柵極、源極和漏極,實(shí)現(xiàn)雙向?qū)p向耐壓的功率MOS器件,可用于鋰電池BMS防護(hù)等應(yīng)用環(huán)境下。相比于傳統(tǒng)BMS中采用雙管串聯(lián)的方式以及其他實(shí)現(xiàn)雙向?qū)ǖ慕Y(jié)構(gòu),本發(fā)明提出的器件結(jié)構(gòu)具有以下優(yōu)點(diǎn):第一,本發(fā)明提出的器件僅需要占據(jù)傳統(tǒng)方式一半甚至更小的面積,極大地提高了集成度;第二,本發(fā)明所提出的器件結(jié)構(gòu)制造工藝簡(jiǎn)單且制造成本也不高,降低了工藝制造上的問(wèn)題;第三,本發(fā)明所提出的器件結(jié)構(gòu)漏極和源極可以對(duì)換,實(shí)現(xiàn)上真正意義上的對(duì)稱結(jié)構(gòu)和雙向?qū)p向耐壓;第四,本發(fā)明所提出的器件結(jié)構(gòu)由于漏極、源極和柵極均在硅片表面,因此易于集成,增加了應(yīng)用環(huán)境。
聲明:
“雙向?qū)ú蹡殴β蔒OS器件結(jié)構(gòu)及制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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