一種準一維冷原子源的制備裝置。所述準一維冷原子源的制備主要利用漫反射激光冷卻原子技術(shù);所述制備裝置主要包括真空腔體、光學(xué)系統(tǒng)和冷原子密度分布測量系統(tǒng)。所述真空腔的外表面覆蓋有對要冷卻原子所需冷卻激光的高漫反射率材料的橫向圓柱形石英玻璃腔體;所述光學(xué)系統(tǒng)主要包括冷卻激光、再抽運激光和探測激光。冷卻激光和再抽運激光進入真空腔體后形成各向同性的準一維冷卻光場對其內(nèi)的背景原子氣體進行激光冷卻,探測激光對冷卻后的原子進行吸收法探測。所述冷原子密度分布測量系統(tǒng)主要包括一對可移動的亥姆霍茲線圈,通過沿著探測方向均勻移動此線圈,對冷原子的密度分布進行測量。本發(fā)明在一種橫向真空腔體中,實現(xiàn)了一種高光學(xué)厚度的均勻分布的準一維冷原子源的制備。在合適的原子源和激光系統(tǒng)情況,可以冷卻和存儲準一維的堿金屬原子如鋰、鈉、鉀、銣、銫及其他適于激光冷卻的原子如亞穩(wěn)態(tài)惰性氣體原子。
聲明:
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